[发明专利]湿度传感器及其用途有效

专利信息
申请号: 201780034024.0 申请日: 2017-03-30
公开(公告)号: CN109313120B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 刘小孔;乔治·宇辉·陈;余利;徐浩兰 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G01N21/00 分类号: G01N21/00;G01N27/00
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 湿度 传感器 及其 用途
【权利要求书】:

1.一种湿敏装置,包括基材和在该基材的至少一部分上的湿敏涂层,其中,该湿敏涂层的厚度取决于邻近该涂层的气氛中的水分量,并且其中,该涂层和/或基材干扰入射在该涂层上的光,产生根据该涂层厚度而变化的光输出;

该涂层为聚电解质多层(PEM);

该涂层包括从5至10.5个PEM双层,其中每个PEM双层包括聚阳离子聚合物层和聚阴离子聚合物层;

PEM双层使用逐层组装技术通过基材与含有聚阳离子聚合物的溶液和含有聚阴离子聚合物的溶液的重复交替处理来形成;含有聚电解质的溶液还含有氯化钠;NaCl浓度为0.5-2M;

该聚阳离子聚合物选自聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(PDDA);

该聚阴离子聚合物选自聚(苯乙烯磺酸盐)(PSS)。

2.根据权利要求1所述的湿敏装置,其中,该光输出包括从该装置反射的光。

3.根据权利要求1所述的湿敏装置,其中,该光输出包括透射穿过该装置的光。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的湿敏装置,其中,该基材具有两个或更多个单独的湿敏涂层,并且该两个或更多个涂层中的至少两个具有不同数量的PEM双层。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的湿敏装置,其中,该基材是不透明材料或反射材料。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的湿敏装置,其中,该基材是玻璃、塑料、陶瓷、金属、准金属或合金。

7.根据权利要求6所述的湿敏装置,其中,该基材选自由以下各项组成的组:抛光硅晶片、黑色或深色且反射的塑料、以及CdTe基材。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的湿敏装置,其中,该基材是条带。

9.一种湿度传感器,包括如权利要求1至8中任一项所述的湿敏装置,其中,该涂层的厚度变化是可逆的。

10.一种湿度传感设备,包括如权利要求9所述的湿度传感器、可操作地与该传感器相关联并被配置成递送入射在该涂层上的光的光源、以及可操作地与该传感器相关联并被配置成检测来自该传感器的输出光的光检测器。

11.根据权利要求10所述的湿度传感设备,其中,该检测器是光电检测器。

12.根据权利要求11所述的湿度传感设备,其中,该光电检测器产生输出电信号,该输出电信号取决于由该光电检测器检测的输出光的强度和/或波长。

13.一种湿度传感器,包括具有取决于邻近涂层的气氛中的水分量的湿敏涂层的弯曲的锥形光纤、被配置成将光馈送到该光纤的一端的光源以及被配置成收集来自另一端的调制光的光检测器,并且其中该涂层厚度的变化导致折射率的变化,这导致由于来自该光纤的光泄漏的基于吸收的损耗,并且导致根据该涂层厚度变化的调制光输出;

该涂层为聚电解质多层(PEM);

该涂层包括从5至10.5个PEM双层,其中每个PEM双层包括聚阳离子聚合物层和聚阴离子聚合物层;

PEM双层使用逐层组装技术通过基材与含有聚阳离子聚合物的溶液和含有聚阴离子聚合物的溶液的重复交替处理来形成;含有聚电解质的溶液还含有氯化钠;NaCl浓度为0.5-2M;

该聚阳离子聚合物选自聚(二烯丙基二甲基氯化铵)(PDDA);

该聚阴离子聚合物选自聚(苯乙烯磺酸盐)(PSS)。

14.一种制造根据权利要求1至13中任一项所述的装置或传感器的方法,该方法包括提供基材,并且用湿敏涂层涂覆该基材。

15.一种测量相对湿度的方法,该方法包括使如权利要求1至13中任一项所述的装置或传感器与具有待测量湿度的气氛接触,测量来自该装置或传感器的光学输出,并基于所测量的光学输出确定相对湿度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于吉林大学,未经吉林大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780034024.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top