[发明专利]紫外线发光半导体器件及其制造方法在审
申请号: | 201780034189.8 | 申请日: | 2017-06-30 |
公开(公告)号: | CN109219892A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 堀田翔平;高岛正之 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | H01L33/56 | 分类号: | H01L33/56;H01L33/54 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;焦成美 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 密封材料层 有机硅密封材料 发光半导体器件 紫外线 缩聚 紫外线发光元件 树脂 基材 有机聚硅氧烷结构 二烷基硅氧烷 紫外线耐久性 面相接触 光射出 加聚 着色 密封 配置 制造 | ||
1.紫外线发光半导体器件,其具有基材、配置于所述基材上的紫外线发光元件、和将所述紫外线发光元件的至少一部分密封的密封材料层,
所述密封材料层具有第1密封材料层及第2密封材料层,
所述第1密封材料层包含加聚型有机硅密封材料或缩聚型有机硅密封材料,所述缩聚型有机硅密封材料包含具有二烷基硅氧烷结构的树脂,
所述第2密封材料层包含缩聚型有机硅密封材料,所述缩聚型有机硅密封材料包含具有下述通式(2A-1)或(3A-1)表示的有机聚硅氧烷结构的树脂,
所述第1密封材料层不与所述紫外线发光元件的光射出面相接触,
[化学式1]
通式(2A-1)中,R1各自独立地表示烷基,R2各自独立地表示烷氧基或羟基,p1、q1、a1及b1表示满足[p1+b1×q1]:[a1×q1]=1:0.25~9的正数,
[化学式2]
通式(3A-1)中,R1各自独立地表示烷基,R2各自独立地表示烷氧基或羟基,p2、q2、r1、a2及b2表示[a2×q2]/[(p2+b2×q2)+a2×q2+(r1+q2)]成为0.3以上且小于0.6的整数。
2.如权利要求1所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述第1密封材料层包含加聚型有机硅密封材料。
3.如权利要求1所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述具有二烷基硅氧烷结构的树脂为具有下述通式(1)表示的二烷基硅氧烷结构的树脂X,
[化学式3]
通式(1)中,R3各自独立地表示烷基,n表示5~4000的整数。
4.如权利要求3所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述n为5~1000的整数。
5.如权利要求1~4中任一项所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述第2密封材料层形成于所述第1密封材料层及所述紫外线发光元件的光射出面之上,且所述第2密封材料层与所述第1密封材料层相接触的面积小于所述第1密封材料层所形成的面积。
6.如权利要求1~5中任一项所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述第1密封材料层的肖氏硬度为A80以下。
7.如权利要求1~6中任一项所述的紫外线发光半导体器件,其中,在所述第1密封材料层与第2密封材料层的界面处,所述第1密封材料层与所述第2密封材料层具有密合性。
8.如权利要求1~7中任一项所述的紫外线发光半导体器件,其中,具有两层以上的所述第2密封材料层。
9.如权利要求1~8中任一项所述的紫外线发光半导体器件,其中,所述第2密封层的形状为凸透镜形状。
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