[发明专利]用于低折射率和低介电常数应用的反应性树脂和配制物

权利要求书

1.高度氟化硅树脂，其包含以下物质的反应产物：

具有氯硅烷官能团的M型单体；具有至少一个氟代烷基的第一T型单体；具有(甲基)丙烯酰基官能团的第二T型单体；任选存在的D型单体；及任选存在的Q型单体；

所述硅树脂基于总重量具有至少55重量％的氟含量，在25℃下具有小于1.4的折射率，且在25℃下具有1000cps至9000cps的未固化粘度。

2.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述M型单体还包括至少一个氟代烷基。

3.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述第一T型单体和所述第二T型单体是三烷氧基硅烷单体。

4.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述树脂包含以下物质的反应产物：10-40摩尔％的所述M型单体；40-65摩尔％的所述第一T型单体；2.5-40摩尔％的不同于所述第一T型单体的所述第二T型单体；0-15摩尔％的所述D型单体；及0-30摩尔％的所述Q型单体，其中总摩尔百分数为100。

5.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述Q型单体存在于所述硅树脂中。

6.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述硅树脂基于总重量具有至少60重量％的氟含量。

7.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述硅树脂在25℃下具有小于1.36的折射率。

8.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂，其中所述硅树脂在25℃下具有2000cps至6000cps的未固化粘度。

9.根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂的固化反应产物。

10.形成根据权利要求1所述的高度氟化硅树脂的方法，其包括以下步骤：

a.)通过将具有氯硅烷官能团的M型单体、具有至少一个氟代烷基的第一T型单体、具有(甲基)丙烯酰基官能团的第二T型单体、任选存在的D型单体及任选存在的Q型单体在选自以下的溶剂中组合来形成单体混合物：二乙醚、甲基叔丁基醚、二异丙基醚及其混合物；

b.)以逐滴方式向所述单体混合物添加水以形成反应混合物；及

c.)使所述反应混合物回流足够的时间段以形成高度氟化硅树脂，基于总树脂重量其具有至少55重量％的氟含量，在25℃下具有1000cps至9000cps的未固化粘度，且在25℃下具有小于1.4的折射率。

11.根据权利要求10所述的形成高度氟化硅树脂的方法，其中步骤a.)还包括组合10-40摩尔％的所述M型单体、40-65摩尔％的所述第一T型单体、2.5-40摩尔％的所述第二T型单体、0-15摩尔％的所述D型单体及0-30摩尔％的所述Q型单体，其中总摩尔百分数为100。

12.根据权利要求10所述的形成高度氟化硅树脂的方法，其中所述Q型单体存在于步骤a.)中。

13.根据权利要求10所述的形成高度氟化硅树脂的方法，其中步骤b.)包括添加基于在所述单体混合物中存在的可水解基团的总数过量的水。

14.根据权利要求10所述的形成高度氟化硅树脂的方法，其中步骤a.)包括选择甲基叔丁基醚作为所述溶剂。

15.根据权利要求10所述的形成高度氟化硅树脂的方法，其中步骤c.)包括使所述反应混合物在40℃-65℃的温度下回流2小时至4小时的时间段。