[发明专利]光学膜的制造方法

权利要求书

1.一种光学膜的制造方法，在沿着膜基材的搬送方向具备多个溅镀室的溅镀成膜装置内，一边连续地搬送膜基材一边在膜基材上形成包含多个薄膜的多层光学薄膜，

所述溅镀成膜装置具备光学测定部，所述光学测定部用于测定在膜基材上形成有薄膜的层叠体的光学特性，

在该光学膜的制造方法中，

在所述溅镀成膜装置内实施一边在膜基材上形成薄膜一边进行成膜条件的调整的预备成膜，之后实施在膜基材上形成所述多层光学薄膜的主成膜，

在所述预备成膜中至少实施一次调整步骤，在所述调整步骤中，一边在膜基材上至少形成一层薄膜，一边根据由所述光学测定部得到的光学特性计算薄膜的膜厚，并基于膜厚的计算结果进行成膜条件的调整，

在所述调整步骤中的至少一次中，

通过对多个溅镀室同时通电来在膜基材上形成两个以上的不同种类材料的薄膜的层叠体，

根据由所述光学测定部得到的光学特性计算多个薄膜的膜厚，并进行各个薄膜的成膜条件的调整，直至由光学测定部得到的光学特性或根据光学特性计算的多个薄膜的膜厚处于规定范围内为止。

2.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

构成所述多层光学薄膜的多个薄膜中的至少一个为在两个以上的溅镀室中形成的多个子薄膜的层叠膜，

在所述预备成膜中至少实施两次所述调整步骤，

对于所述多个子薄膜，通过不同的调整步骤进行成膜条件的调整。

3.根据权利要求1所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

在所述调整步骤中，通过所述光学测定部进行在膜基材上形成薄膜而成的层叠体的反射光谱的测定，

在所述调整步骤中的至少一次中，根据反射光谱计算多个薄膜的膜厚。

4.根据权利要求3所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

在所述调整步骤中，基于根据所述反射光谱计算的多个薄膜的膜厚的测定值来进行各个薄膜的成膜条件的调整，

进行各个薄膜的成膜条件的调整，直至多个薄膜的膜厚的测定值处于规定范围内为止。

5.根据权利要求3所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

在所述调整步骤中，基于根据所述反射光谱计算的多个薄膜的膜厚的测定值来进行各个薄膜的成膜条件的调整，

进行各个薄膜的成膜条件的调整，直至由所述光学测定部进行测定所得到的反射光谱与设为目标的反射光谱的差处于规定范围内为止。

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

在所述预备成膜中，至少实施两次所述调整步骤，

多个调整步骤中的膜基材的搬送速度相同。

7.根据权利要求1至5中的任一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

在所述调整步骤中，通过所述光学测定部进行宽度方向的多个部位的光学特性的测定，并根据得到的光学特性计算薄膜的在宽度方向的多个部位处的膜厚，

通过在宽度方向的多个部位进行成膜条件的调整，减少薄膜的宽度方向的膜厚分布。

8.根据权利要求1至5中的任一项所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

所述溅镀成膜装置在溅镀室内具备检测溅镀成膜的等离子体发光强度的等离子体发射监视器，

以使由等离子体发射监视器检测的等离子体发光强度处于设定范围内的方式调整导入至溅镀室的气体的流量。

9.根据权利要求8所述的光学膜的制造方法，其特征在于，

所述溅镀成膜装置在溅镀室内沿着宽度方向在多个部位具备所述等离子体发射监视器，

多个等离子体发射监视器能够分别独立地设定等离子体发光强度的设定值，

以使由各个等离子体发射监视器检测的发光强度处于设定范围内的方式对导入至宽度方向的对应位置的气体的流量进行调整。