[发明专利]多层膜的成膜方法有效
申请号: | 201780035580.X | 申请日: | 2017-06-02 |
公开(公告)号: | CN109312455B | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 佐木晓;首藤俊介 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;G01B11/06;G02B1/115;G02B5/08 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多层 方法 | ||
1.一种多层膜的成膜方法,包括以下工艺,
重复进行下面的步骤:
设定多层膜的各层的膜厚的目标值即目标膜厚值;
求出所述各层的膜厚为所述目标膜厚值时的光学特性的理论值即第一理论光学值;
测定所形成的多层膜的光学特性的实测值即实测光学值;
将所述目标膜厚值设为所形成的所述各层的膜厚的第一估计膜厚值;
求出所述实测光学值与所述第一理论光学值之差即第一光学值差,并将所述第一光学值差与预先设定的收敛条件进行比较;
在所述第一光学值差不满足所述收敛条件的情况下,设定所述各层的膜厚的第二估计膜厚值,其中,该第二估计膜厚值被预测为能够获得比所述第一光学值差小的光学值差;
求出所述各层的膜厚为所述第二估计膜厚值时的光学特性的理论值即第二理论光学值;以及
求出所述实测光学值与所述第二理论光学值之差即第二光学值差,并将所述第二光学值差与所述收敛条件进行比较,
重复进行上述的各步骤,来求出所述实测光学值与各步骤的理论光学值之差满足所述收敛条件的所述各层的估计膜厚值,
所述收敛条件是所述第一光学值差和所述第二光学值差为预先设定的相同的标准值以下,
其中,将满足所述收敛条件的所述各层的估计膜厚值设为所形成的所述各层的最精准的估计膜厚值即最精准估计膜厚值。
2.根据权利要求1所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
所述多层膜的光学特性为所述多层膜的光谱反射率。
3.根据权利要求1所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
所述多层膜的光学特性为所述多层膜的反射光的色相。
4.根据权利要求2所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
还包括以下步骤:在估计所述各层的膜厚时,参照所述光谱反射率来计算所述各层的最佳的膜厚,基于所述各层的最佳的膜厚来决定所述各层中应变更膜厚的层。
5.根据权利要求3所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
还包括以下步骤:在估计所述各层的膜厚时,参照所述反射光的色相来计算所述各层的最佳的膜厚,基于所述各层的最佳的膜厚来决定所述各层中应变更膜厚的层。
6.根据权利要求1~5中的任一项所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
使用曲线拟合法来求出能够获得比某个步骤的光学值差更小的光学值差的估计膜厚值。
7.根据权利要求1~5中的任一项所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
所述多层膜为多层光学膜。
8.根据权利要求1~5中的任一项所述的多层膜的成膜方法,其特征在于,
通过溅射法来形成所述多层膜。
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