[发明专利]用于4D成像的多射束X射线暴露的系统和方法有效
申请号: | 201780036449.5 | 申请日: | 2017-05-12 |
公开(公告)号: | CN109310384B | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | G·福格特米尔;K·J·恩格尔;M·格拉斯;B·门瑟;H·施泰因豪泽;A·法齐;H·斯特格胡伊斯;D·谢弗 | 申请(专利权)人: | 皇家飞利浦有限公司 |
主分类号: | A61B6/00 | 分类号: | A61B6/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 李光颖;王英 |
地址: | 荷兰艾*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 成像 多射束 射线 暴露 系统 方法 | ||
1.一种用于多射束X射线暴露的系统,所述系统包括:
多个辐射源(XY),以及
辐射探测器(20),
其中,所述辐射源中的每个被布置为使得将辐射发射到所述探测器的子区域上,
其中,所述多个辐射源中的第一组辐射源将辐射同时发射到所述探测器(20)的第一图案的子区域上,其中,所述第一图案的所述子区域彼此不交叠,
其中,所述多个辐射源中的第二组辐射源将辐射同时发射到所述探测器(20)的第二图案的子区域上,其中,所述第二图案的所述子区域彼此不交叠,
其中,所述多个辐射源(XY)以在第一方向(x)和第二方向(y)上延伸的矩阵进行布置,
其中,所述第一组辐射源的辐射源和所述第二组辐射源的辐射源在所述第一方向(x)和所述第二方向(y)上交替布置,并且
其中,所述第一图案的所述子区域与所述第二图案的所述子区域交叠。
2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述第一组辐射源与所述第二组辐射源之间的顺序切换能够被执行。
3.根据权利要求2所述的系统,还包括被配置为控制对来自辐射源的所述组的辐射发射的切换序列的控制单元。
4.根据权利要求3所述的系统,其中,所述第二组辐射源中的所述辐射源沿着所述矩阵的所述第一方向(x)布置,并且被布置有在所述第二方向(y)上相距所述第一组辐射源中的所述辐射源的一距离。
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统,其中,所述多个辐射源(XY)包括另一组辐射源,其中,所述另一组辐射源将辐射同时发射到所述探测器的另一图案的子区域上,其中,所述另一图案的所述子区域与所述第一图案的所述子区域和/或所述第二图案的所述子区域交叠。
6.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统,其中,所述多个辐射源(XY)定义主辐射方向,并且其中,所述多个辐射源中的至少一个辐射源被布置为使得所述辐射源的辐射方向相对于所述主辐射方向以多达50°的角度(a,b)倾斜。
7.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统,还包括为不同辐射源提供不同电压的多个高电压发生器单元和/或提供快速kV切换的单元。
8.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统,还包括在所述辐射探测器处的防散射网格。
9.根据权利要求1至4中的任一项所述的系统,还包括被配置为顺序地控制对辐射源的所述组的辐射的发射的控制单元。
10.一种使用根据权利要求1所述的用于多射束X射线暴露的系统的方法,包括以下步骤:
从多个辐射源(XY)中的第一组辐射源同时发射辐射,
探测所述探测器(20)的第一图案的子区域上的所发射的辐射,其中,所述第一图案的所述子区域彼此不交叠,
从所述多个辐射源(XY)中的第二组辐射源同时发射辐射,
探测所述探测器(20)的第二图案的子区域上的所发射的辐射,其中,所述第二图案的所述子区域彼此不交叠,
其中,所述多个辐射源(XY)以在第一方向(x)和第二方向(y)上延伸的矩阵进行布置,
其中,所述第一组辐射源的辐射源和所述第二组辐射源的辐射源在所述第一方向(x)和所述第二方向(y)上交替布置,并且
其中,所述第一图案的所述子区域与所述第二图案的所述子区域交叠。
11.根据权利要求10所述的方法,还包括基于在所述第一图案的所有子区域中探测到的辐射来重建第一图像的步骤和基于在所述第二图案的所有子区域中探测到的辐射来重建第二图像的步骤。
12.根据权利要求10或11所述的方法,还包括为用于谱分解的不同辐射源提供不同高电压的步骤。
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