[发明专利]用于压实陶瓷粉末的机器和方法在审
申请号: | 201780036573.1 | 申请日: | 2017-06-13 |
公开(公告)号: | CN109476037A | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 克劳迪奥·里奇;斯特凡诺·斯卡尔多维 | 申请(专利权)人: | 萨克米伊莫拉机械合作社合作公司 |
主分类号: | B28B3/12 | 分类号: | B28B3/12;B28B5/02;B28B13/02;B28B17/00;B30B15/30;G01B1/00;G01N9/24;G01N23/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 孙纪泉 |
地址: | 意大利*** | 国省代码: | 意大利;IT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷粉末 压实 检测装置 压实装置 随时间变化 供给方向 检测 传送 | ||
1.一种用于压实陶瓷粉末(CP)的机器,所述机器(1)包括:压实装置(2),所述压实装置布置在工作站(3)的区域中并被设计成压实所述陶瓷粉末(CP),从而获得压实的陶瓷粉末(KP)的层;传送器组件(4),所述传送器组件以基本上连续的方式沿着给定路径的从输入站(5)到所述工作站(3)的第一部分(PA)输送所述陶瓷粉末(CP)且沿着所述给定路径的从所述工作站(3)到输出站(6)的第二部分(PB)输送所述压实的陶瓷粉末(KP)的层;以及供给组件(7),所述供给组件被设计成在所述输入站(5)的区域中将所述陶瓷粉末(CP)供给到所述传送器组件(4);
所述机器(1)的特征在于,所述机器(1)包括:检测装置(8),所述检测装置被设计成检测所述压实的陶瓷粉末(KP)的层的密度并布置在沿着所述给定路径的第二部分(PB)的检测站(9)的区域中;以及控制装置(10),所述控制装置控制所述供给组件(7),从而根据由所述检测装置(8)检测到的结果,使通过所述传送器组件(4)被供应到所述工作站(3)的陶瓷粉末的量随时间变化。
2.根据权利要求1所述的机器,其中,所述供给组件(7)被设计成将(未压实的)陶瓷粉末(CP)供应到所述传送器组件(4),所述传送器组件(4)被设计成在供给方向(A)上将所述陶瓷粉末(CP)的层供给到所述压实装置(2);所述检测装置(8)被设计成检测所述压实的陶瓷粉末(KP)的层相对于所述供给方向(A)彼此交错(特别地,未对准)的区域的密度;所述供给组件(7)被设计成以差异化的方式使所述陶瓷粉末(CP)的层的横向于所述供给方向(A)的厚度变化;所述控制装置(10)被设计成控制所述供给组件(7),从而根据由所述检测装置(8)检测到的结果,以差异化的方式使所述陶瓷粉末(CP)的层的横向于所述供给方向(A)的厚度变化。
3.根据权利要求1或2所述的机器,其中,所述传送器组件(4)包括传送带(11),所述传送带沿着所述给定路径(PA、PB)从所述输入站(5)延伸通过所述工作站(3);所述供给组件(7)被设计成将(未压实的)陶瓷粉末(CP)的层供给在所述传送带(11);所述压实装置(2)被设计成将横向压力施加于所述陶瓷粉末(CP)的层,特别地,所述压实装置(2)包括至少两个压缩辊(12),所述至少两个压缩辊(12)布置在所述传送带(11)的相对侧,从而将压力施加于所述陶瓷粉末(CP),以压实所述陶瓷粉末(CP)自身。
4.根据前述权利要求中任一项所述的机器,包括切割组件(14),所述切割组件(14)横向地切割所述压实的陶瓷粉末(KP)的层,以获得多个板坯(15),每个板坯(15)具有所述压实的陶瓷粉末(KP)的层的一部分,特别地,所述切割组件(14)沿着所述给定路径的第二部分(PB)布置在所述工作站(3)与所述检测站(9)之间。
5.根据前述权利要求中任一项所述的机器,其中,所述供给组件(7)包括:第一分配单元(21),所述第一分配单元被设计成将基本量的陶瓷粉末(CP)供给到所述传送器组件(4);以及第二分配单元(22),所述第二分配单元由所述控制装置(10)控制,从而将另一量的陶瓷粉末(CP)供给到所述传送器组件(4),以根据由所述检测装置(8)检测到的结果,使通过所述供给组件(7)被供应到所述传送器组件(4)的陶瓷粉末(CP)的量变化;特别地,所述第二分配单元(22)布置在所述第一分配单元(21)与所述工作站(3)之间,且以所述基本量供给所述陶瓷粉末(CP)。
6.根据前述权利要求中任一项所述的机器,其中,所述供给组件(7)包括:第一分配单元(21),所述第一分配单元被设计成将基本量的陶瓷粉末供给到所述传送器组件(4);以及移除单元(25),所述移除单元由所述控制装置(10)控制,以移除所述基本量的陶瓷粉末(CP)的一部分,从而根据由所述检测装置(8)检测到的结果,使通过所述供给组件(7)被供应到所述传送器组件(4)的所述陶瓷粉末(CP)的量变化;所述移除单元(25)布置在所述第一分配单元(21)与所述工作站(3)之间,特别地,所述移除单元(25)被设计成从所述陶瓷粉末(CP)的层移除陶瓷粉末(CP)。
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