[发明专利]用于确定衬底上目标结构的位置的方法和设备、用于确定衬底的位置的方法和设备

权利要求书

1.一种在衬底上定位目标结构的方法，所述目标结构由上层结构遮蔽，所述方法包括：

(a)提供相对位置信息，所述相对位置信息限定所述目标结构的、相对于所述衬底的一个或多个边缘部分的位置，所述相对位置信息在形成所述上层结构之前已被限定；

(b)在形成所述上层结构之后，测量所述边缘部分的位置；以及

(c)基于在步骤(b)中测量的所述边缘部分的位置和在步骤(a)中提供的所述相对位置信息，获得所述目标结构的位置；

其中在步骤(a)和步骤(b)中的一个或两者中，通过使用相机获取所述衬底的边缘区域的图像，测量所述边缘部分的位置，以及

其中所述相机的光学系统被配置为通过角度选择性孔径来传递相对于光轴的特定角度的辐射，以使所述边缘区域的具有特定斜角的一部分在所述图像中被增强。

2.根据权利要求1所述的方法，进一步包括步骤：

(d)使用所获得的目标结构的位置，移除所述上层结构的一部分以暴露所述目标结构。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述步骤(b)进一步包括确定所述衬底的定向，以及所述步骤(c)在步骤(c)中的获得所述目标结构的位置中使用所确定的定向，

其中通过识别跨所述衬底分布的图案的定向，测量所述衬底的定向。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，在通过测量跨所述衬底表面的高度获得的拓扑结构变化中识别所分布的图案。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中，步骤(a)包括：

(a1)在形成所述目标结构之前，测量所述边缘部分的位置；以及

(a2)在相对于所述衬底的所述边缘部分的所测位置而限定的位置处，形成所述目标结构。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中，步骤(a)包括：

(a1)在形成所述目标结构之后、但是在形成所述上层结构之前，测量所述边缘部分的位置，并且测量所述目标结构的位置；以及

(a2)基于步骤(a1)中所测的位置，记录所述相对位置信息以在步骤(c)中后续使用。

7.一种用于在衬底上定位目标结构的设备，所述设备包括：

存储装置，所述存储装置用于存储相对位置信息，所述相对位置信息限定所述目标结构的、相对于所述衬底的一个或多个边缘部分的位置；

边缘位置传感器，所述边缘位置传感器可操作用于测量所述边缘部分的位置；以及

处理器，所述处理器被设置用于基于所述边缘部分的所测位置以及在所述存储装置中提供的所述相对位置信息，计算获得所述目标结构的位置；

其中所述边缘位置传感器包括相机，所述相机可操作用于获取所述衬底的边缘区域的图像，以及其中所述相机的光学系统被配置为通过角度选择性孔径来传递相对于光轴的特定角度的辐射，以使所述边缘区域的、具有特定斜角的一部分在所述图像中被增强。

8.根据权利要求7所述的设备，其中，所述相机的所述光学系统包括角度选择性孔径装置，所述角度选择性孔径装置被设置用于传递从具有预定角度的晶片边缘反射的射线。

9.根据权利要求7或8所述的设备，其中，所述边缘位置传感器可操作用于在上层结构遮蔽所述目标结构时，测量所述边缘部分的位置，以及其中所述设备进一步包括位置传感器，所述位置传感器可操作用于在已移除所述上层结构的一部分之后，与基于所述边缘部分的所测位置以及在所述存储装置中提供的所述相对位置信息所得到的位置相比，更精确地测量所述目标结构的位置。

10.根据权利要求9所述的设备，其中，所述相机形成用于更精确地测量所述目标结构的位置的所述位置传感器的一部分。

11.一种用于施加图案至衬底的光刻设备，所述光刻设备包括根据权利要求7至10中任一项所述的设备、以及控制器，所述控制器用于使用所述目标结构的经计算的位置以控制被施加至所述衬底的一个或多个图案的定位。