[发明专利]电场放射装置和改质处理方法有效

专利信息
申请号: 201780036662.6 申请日: 2017-03-16
公开(公告)号: CN109314027B 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 高桥大造;巽敏规;畠中道大 申请(专利权)人: 株式会社明电舍
主分类号: H01J35/06 分类号: H01J35/06;H01J35/16;H05G1/00
代理公司: 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 宋岩
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电极 电极支撑单元 发射器 移动 改质处理 场发射 真空室 开口 发射器位置 彼此面对 分离位置 两端方向 施加电压 上支撑 移动地 放电 外周 重复
【权利要求书】:

1.一种电场放射装置,包括:

真空外壳,其是通过密封筒状绝缘体的两个端侧并在所述绝缘体的内壁侧具有真空室而形成的;

发射器,位于所述真空室的一个端侧,并且具有面向所述真空室的另一个端侧的电子生成部分;

保护电极,在所述发射器的所述电子生成部分的外周侧提供;

靶,位于所述真空室的所述另一个端侧并且面向所述发射器的所述电子生成部分;以及

能移动的保护电极支撑单元,在所述真空室的两端方向上能移动地支撑所述保护电极,并且其中

所述保护电极支撑单元被构造成通过所述保护电极支撑单元的移动来改变所述发射器的所述电子生成部分与所述保护电极之间的距离,

所述保护电极具有在所述真空室的所述两端方向上在所述发射器的外周侧延伸的筒状形状,并且

所述保护电极的靶侧通过所述保护电极支撑单元的移动而移动并且与所述发射器的所述电子生成部分接触和分离。

2.一种电场放射装置,包括:

真空外壳,其是通过密封筒状绝缘体的两个端侧并在所述绝缘体的内壁侧具有真空室而形成的;

发射器,位于所述真空室的一个端侧,并且具有面向所述真空室的另一个端侧的电子生成部分;

保护电极,在所述发射器的所述电子生成部分的外周侧提供;

靶,位于所述真空室的所述另一个端侧并且面向所述发射器的所述电子生成部分;以及

能移动的保护电极支撑单元,在所述真空室的两端方向上能移动地支撑所述保护电极,并且其中

所述保护电极支撑单元具有能够在所述真空室的所述两端方向上膨胀和收缩的保护电极侧波纹管,

所述保护电极侧波纹管的一个端侧和另一个端侧中的任意一方支持所述保护电极支撑单元并且所述保护电极侧波纹管的一个端侧和另一个端侧中的另一方由所述真空外壳支持,并且所述保护电极侧波纹管形成所述真空外壳的一部分,并且

所述保护电极支撑单元被构造成通过所述保护电极支撑单元的移动来改变所述发射器的所述电子生成部分与所述保护电极之间的距离。

3.根据权利要求2所述的电场放射装置,其中:

所述保护电极支撑单元具有从所述保护电极延伸到所述真空室的所述一个端侧的轴部分,

所述轴部分的一个端侧穿过所述真空外壳并延伸到所述真空外壳外部,并且所述轴部分的另一个端侧支持所述保护电极,并且

所述保护电极侧波纹管的所述一个端侧支持所述轴部分的所述一个端侧,并且所述保护电极侧波纹管的所述另一个端侧由所述真空外壳支持。

4.根据权利要求2所述的电场放射装置,其中:

所述保护电极支撑单元具有从所述保护电极延伸到所述真空室的所述一个端侧的轴部分,

所述保护电极侧波纹管由在所述真空室的所述两端方向上延伸并且同心地布置在所述保护电极与所述真空外壳之间的外侧波纹管构件和内侧波纹管构件形成,

所述轴部分在所述真空室的所述两端方向上在所述外侧波纹管构件和所述内侧波纹管构件之间延伸,所述轴部分的一个端侧穿过所述真空外壳并延伸到所述真空外壳外部,并且所述轴部分的另一个端侧支持所述保护电极,并且

所述外侧波纹管构件和所述内侧波纹管构件的各自的一个端侧由所述真空外壳支持,并且所述外侧波纹管构件和所述内侧波纹管构件的各自的另一个端侧支持所述轴部分的所述另一个端侧。

5.根据前述权利要求2至4中任一项所述的电场放射装置,其中:

所述保护电极具有在所述真空室的所述两端方向上在所述发射器的外周侧延伸的筒状形状,并且

所述保护电极的靶侧通过所述保护电极支撑单元的移动而移动并且与所述发射器的所述电子生成部分接触和分离。

6.根据权利要求1所述的电场放射装置,其中:

所述保护电极在其靶侧设有小直径部分。

7.根据权利要求5所述的电场放射装置,其中:

所述保护电极在其靶侧设有小直径部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社明电舍,未经株式会社明电舍许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780036662.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top