[发明专利]耐刮擦且光学透明的材料和制品

权利要求书

1.一种光学透明材料，其包含：

包含硅、铝和氮的组合物；

在400nm波长下小于约1x10^-3的消光系数(k)，在约380nm至约780nm范围中的光学波长区内的约80％或更高的平均透射率，其通过厚度为约2微米的材料测得；

约12GPa或更大的本征最大硬度，其通过布氏压头硬度测试沿着约100nm或更深的压痕深度在厚度为约400nm的材料的主表面上测得。

2.如权利要求1所述的光学透明材料，其中，所述组合物还包含氧。

3.如权利要求1或权利要求2所述的光学透明材料，其中，当将所述材料设置在基材上时，所述材料包含约-1000MPa至约100MPa的压缩应力。

4.如权利要求3所述的光学透明材料，其中，所述压缩应力在约-300MPa至约100MPa的范围内。

5.如前述权利要求中任一项所述的光学透明材料，其中，所述材料包含约2.0或更大的折射率，所述折射率在550nm的波长下测得。

6.如前述权利要求中任一项所述的光学透明材料，其中，所述材料包含小于1.5nm的粗糙度(Ra)，所述粗糙度(Ra)通过原子力显微技术在主表面上沿着尺寸为2微米×2微米的成像区测量。

7.一种光学透明材料，其包含：

包含硅、铝、氧和氮的组合物，其中，硅存在的量为约25原子％或更少，氧的量在约0原子％至约15原子％的范围内；

在约380nm至约780nm范围中的光学波长区内的约80％或更高的平均透射率，其通过厚度为2微米的材料测得；

约12GPa或更大的本征最大硬度，其通过布氏压头硬度测试沿着约100nm或更深的压痕深度在厚度为约400nm的材料的主表面上测得。

8.如权利要求7所述的光学透明材料，其中，所述组合物包含约5原子％至约25原子％的量的硅，约25原子％至约45原子％的量的铝，约0原子％至约15原子％的量的氧，以及约35原子％至约50原子％的量的氮。

9.如权利要求7所述的光学透明材料，其中，所述组合物包含约7原子％至约17原子％的量的硅，约33原子％至约43原子％的量的铝，约0原子％至约10原子％的量的氧，以及约40原子％至约50原子％的量的氮。

10.如权利要求7-9中任一项所述的材料，其中，所述组合物包含至少约0.1原子％的氧。

11.如权利要求7-10中任一项所述的光学透明材料，其中，当将所述材料设置在基材上时，所述材料包含约-1000MPa至约100MPa的压缩应力。

12.如权利要求7-11中任一项所述的光学透明材料，其中，所述材料包含小于约1x10^-3的400nm波长下的消光系数(k)，其通过厚度为约400nm的材料测得。

13.如权利要求7-12中任一项所述的光学透明材料，其中，所述材料包含约2.0或更大的折射率，所述折射率在550nm的波长下测得。

14.如权利要求7-13中任一项所述的光学透明材料，其中，所述材料包含小于1.5nm的粗糙度(Ra)，所述粗糙度(Ra)通过原子力显微技术在主表面上沿着尺寸为2微米×2微米的成像区测得。