[发明专利]防反射薄膜及其制造方法、以及带有防反射层的偏光板

权利要求书

1.一种防反射薄膜，其在透明薄膜基材的一个主表面具备包含折射率不同的多个薄膜的防反射层，

所述防反射薄膜的在温度40℃、湿度90％RH的气氛中测定的透湿度为15～1000g/m²·24h，

防反射层表面的压痕模量为20～100GPa，算术平均粗糙度Ra为1.3nm以下。

2.根据权利要求1所述的防反射薄膜，其中，所述透明薄膜基材在所述防反射层的形成面侧具备硬涂层。

3.根据权利要求2所述的防反射薄膜，其中，所述硬涂层包含丙烯酸类氨基甲酸酯系树脂。

4.根据权利要求2或3所述的防反射薄膜，其中，所述硬涂层为树脂基质中分散有微粒的防眩性硬涂层。

5.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜，其中，在所述防反射层上具备防污层。

6.根据权利要求1或2所述的防反射薄膜，其中，所述防反射层为氧化铌薄膜与硅氧化物薄膜的交替层叠体。

7.一种带有防反射层的偏光板，其在偏振片的一个面具备权利要求1～6中任一项所述的防反射薄膜。

8.一种防反射薄膜的制造方法，其是制造权利要求1～5中任一项所述的防反射薄膜的方法，

其中，构成防反射层的薄膜通过溅射法而成膜。

9.根据权利要求8所述的防反射薄膜的制造方法，其中，构成防反射层的薄膜的溅射成膜时的压力为0.4Pa以上。

10.根据权利要求8或9所述的防反射薄膜的制造方法，其中，构成防反射层的薄膜一边向成膜室内导入非活性气体及反应性气体一边通过反应性溅射而成膜。

11.根据权利要求10所述的防反射薄膜的制造方法，其中，以利用反应性溅射的成膜成为过渡区域的方式，进行所述反应性气体的导入量的控制。

12.根据权利要求10所述的防反射薄膜的制造方法，其中，检测放电的等离子发光强度，基于等离子发光强度进行所述反应性气体的导入量的控制。

13.根据权利要求10所述的防反射薄膜的制造方法，其中，检测放电电压，基于放电电压进行所述反应性气体的导入量的控制。

14.根据权利要求8或9所述的防反射薄膜的制造方法，其中，构成防反射层的薄膜的溅射成膜时的靶表面的磁通密度为20mT以上。