[发明专利]涂布图案形成方法、涂布图案形成装置和带涂布图案的基材在审

专利信息
申请号: 201780038028.6 申请日: 2017-06-22
公开(公告)号: CN109414724A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 岛谷谦一;友枝哲 申请(专利权)人: 东丽工程株式会社
主分类号: B05D3/06 分类号: B05D3/06;B05C9/10;B05D3/02;B32B7/04;B05C5/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 沈娥;庞东成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 图案区域 亲液性 涂布图案 小图案 涂布涂布 基材 形成工序 形成装置 形状形成 增高
【说明书】:

本发明提供一种能够按照预先设定的形状形成涂布图案的涂布方法。具体地说,本发明的涂布图案形成方法对设置于基材上的图案区域涂布涂布液,形成具有图案区域的形状的涂布图案,其具有下述工序:亲液性调节工序,对图案区域的亲液性进行调节;以及涂布图案形成工序,对调节了亲液性的图案区域涂布涂布液,形成涂布图案,在亲液性调节工序中,对图案区域的亲液性进行调节,以使得图案区域在至少一个方向上被划分成2个以上的小图案区域,且相邻的小图案区域彼此具有不同的亲液性,在划分图案区域的方向即划分方向上,图案区域的端部以外的上述小图案区域具有最低亲液性,小图案区域的亲液性从该具有最低亲液性的小图案区域朝向图案区域的端部增高。

技术领域

本发明涉及通过喷墨法在基材上涂布涂布液并形成任意形状的涂布膜的涂布图案形成方法、涂布图案形成装置和带涂布图案的基材。

背景技术

在基材W上形成任意形状的涂布图案时,以往采用光刻,近年来多采用基于喷墨法的涂布来代替光刻。光刻需要涂布、曝光、蚀刻等多个工序且蚀刻工序中消耗大量的涂布材料,与此相对,利用该喷墨法能够以较少的工序且在几乎不浪费涂布材料的情况下进行涂布图案51的形成。

但是,在利用喷墨法形成涂布图案时,液滴着落在基材W上之后会产生浸润扩展,因此难以按照预先设定的形状形成涂布图案。特别是在涂布图案彼此的间隔狭窄的情况下,有时涂布图案彼此连接,有可能无法发挥对该涂布图案所期待的性能。因此,如下述专利文献1所示,有时采用下述方法:预先按照涂布图案的形状提高基材W的亲液性,再对该部分喷出液滴。这样,液滴在亲液性高的部分内浸润扩展,因此能够容易地形成预先设定的形状的涂布图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2005-109390号公报

发明内容

发明所要解决的课题

但是,即使在通过上述方法形成了涂布图案的情况下,也有可能无法精度良好地得到任意形状的涂布图案。具体地说,如图7(a)那样在基材W上按照涂布图案的形状预先形成亲液性比周围高的图案区域91,在该图案区域91上涂布液滴而形成图7(b)所示的涂布图案92,此时如图7(b)中箭头所示,表面张力作用于涂布图案92,因此涂布图案92被拉向涂布图案92的中央部,如图7(c)所示,例如有可能在涂布图案92的角部产生非填充部93。

本发明是鉴于上述问题而完成的,其目的在于提供能够按照预先设定的形状形成涂布图案的涂布图案形成方法、涂布图案形成装置和带涂布图案的基材。

用于解决课题的手段

为了解决上述课题,本发明的涂布图案形成方法对设置于基材上的图案区域涂布涂布液,形成具有上述图案区域的形状的涂布图案,其特征在于,该方法具有下述工序:亲液性调节工序,对上述图案区域的亲液性进行调节;以及涂布图案形成工序,对调节了亲液性的上述图案区域涂布涂布液,形成涂布图案,在上述亲液性调节工序中,对上述图案区域的亲液性进行调节,以使得上述图案区域在至少一个方向上被划分成2个以上的小图案区域,且相邻的上述小图案区域彼此具有不同的亲液性,在划分上述图案区域的方向即划分方向上,上述图案区域的端部以外的上述小图案区域具有最低亲液性,上述小图案区域的亲液性从该具有最低亲液性的上述小图案区域朝向上述图案区域的端部增高。

根据上述涂布图案形成方法,通过亲液性调节工序,在划分方向上,图案区域的端部以外的小图案区域具有最低亲液性,小图案区域的亲液性从该具有最低亲液性的小图案区域朝向图案区域的端部增高,由此在形成涂布图案的涂布液中产生从涂布图案内侧向外侧的流动,涂布液能够浸润扩展至图案区域的端部。

另外,可以是,在上述亲液性调节工序中,对上述图案区域的亲液性进行调节,以使得在至少上述图案区域的角部设置上述小图案区域,且在构成上述图案区域的2个以上的上述小图案区域中角部的上述小图案区域的亲液性最高。

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