[发明专利]使用固体碘化铝(AlI3

权利要求书

1.一种离子注入装置，配置为注入来自于固体碘化铝材料源的铝离子,所述装置包括：

离子源，其配置成从碘化铝形成离子束，所述离子源包括配置成从所述碘化铝离解铝离子的电弧腔室；

束线总成，其配置成选择性输送所述离子束；以及

终端站，其配置成接受所述离子束，用于将所述铝离子注入工件中；

输水装置，其配置成将水或水蒸汽引入所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个，其中所述输水装置配置成使水或水蒸汽与所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个的一个或多个内表面上形成的残余碘化铝反应；以及

真空装置，其配置成排空所述离子源、所述束线总成和所述终端站中的一个或多个，其中所述真空装置进一步配置成从各自的离子源、束线总成和终端站除去水或水蒸汽与反应的残余碘化铝的一种或多种反应产物。

2.如权利要求1所述的离子注入装置，进一步包括：

固态材料源，其包括固体形式的碘化铝；以及

固体源蒸发器，其配置成蒸发碘化铝，从而界定气态碘化铝，其中所述离子源包括配置成由气态碘化铝形成等离子体并从气态碘化铝离解铝离子的所述电弧腔室，并且其中所述输水装置配置成将水或水蒸汽引入所述电弧腔室。

3.如权利要求2所述的离子注入装置，其中，所述离子源进一步包括配置成从所述电弧腔室引出离子束的一个或多个引出电极，其中所述输水装置进一步配置成将水或水蒸汽引入所述一个或多个引出电极。

4.如权利要求2所述的离子注入装置，其中所述固体源蒸发器包括配置成将碘化铝加热到蒸发温度的一个或多个加热元件。

5.如权利要求2所述的离子注入装置，其中，所述固体源蒸发器配置成将碘化铝加热到90℃至100℃。

6.如权利要求1所述的离子注入装置，其中，所述工件包含碳化硅。

7.如权利要求1所述的离子注入装置，其中，所述碘化铝呈粉末形式、颗粒形式和块状固体形式中的一种或多种。

8.一种用于清洁离子注入装置的一个或多个组件的方法，该方法包括：

通过碘化铝的离子化将从固体碘化铝材料源获得的铝离子注入到工件中，其中残留的碘化铝在一种或多种组分的一个或多个内表面上形成；

将水蒸汽引入所述一个或多个组件的一个或多个内表面，其中使残余碘化铝与水蒸汽反应形成氢碘酸；以及

排空所述离子注入装置，其中除去残余碘化铝和氢碘酸。

9.如权利要求8所述的方法，包括迭代地引入水蒸汽并排空所述离子注入装置。

10.如权利要求8所述的方法，其中，原位引入水蒸汽。

11.如权利要求8所述的方法，进一步包括引入水蒸汽并排空所述离子注入装置。

12.如权利要求8所述的方法，其中，所述一个或多个组件包括离子源和引出电极中的一个或多个。

13.一种用于清洁离子注入装置的方法，该方法包括：

经由碘化铝的离子化将从固体碘化铝材料源获得的铝离子注入工件中；

在注入铝离子之后，将水蒸汽引入所述离子注入装置，其中水蒸汽与所述离子注入装置的一个或多个组件的一个或多个内表面上形成的残余碘化铝反应；以及

排空所述离子注入装置，其中从所述离子注入装置中除去水蒸汽与反应的残余碘化铝的一种或多种反应产物。

14.如权利要求13所述的方法，其中，使水蒸汽与残余碘化铝反应形成氢碘酸。

15.如权利要求13所述的方法，其中，迭代地执行引入水蒸汽并排空所述离子注入装置。