[发明专利]用于处理颗粒物质的设备和方法

权利要求书

1.一种用于根据原子层沉积方法的原理对颗粒物质进行处理的设备，所述处理通过使所述颗粒物质暴露于至少第一气态前体和第二气态前体的连续表面反应而进行，其特征在于，所述设备包括：

真空室(1)；

用于包含颗粒物质的反应室(2)，所述反应室(2)设置在所述真空室(1)内侧；

振动机构(3)，所述振动机构布置成使所述反应室(2)振动以用于使所述反应室(2)内的颗粒物质振动；以及

前体系统(4)，所述前体系统(4)布置成供应所述至少第一气态前体和第二气态前体穿过所述反应室(2)，以便使所述颗粒物质处于所述至少第一气态前体和第二气态前体中，所述前体系统(4)包括入口(4a)并且所述前体系统(4)布置在所述真空室(1)外侧，使得所述入口(4a)布置成行经所述真空室(1)并且通向所述反应室(2)；并且

所述反应室(2)布置在平台(6)中，所述平台(6)包括用于使所述反应室(2)内的颗粒物质振动的所述振动机构(3)；

其中，所述反应室(2)和所述真空室(1)彼此机械地分离开，从而防止所述真空室(1)振动。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述振动机构(3)可操作地连接到所述设备并且布置成使所述设备的至少一部分振动以便使所述反应室(2)内的颗粒物质振动。

3.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述振动机构(3)可操作地连接到所述反应室(2)，以便使所述反应室(2)振动。

4.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括用于包含颗粒物质的容器(5)，所述容器(5)布置在所述反应室(2)内侧。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述振动机构(3)可操作地连接到所述容器(5)，以便使所述容器(5)振动。

6.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述振动机构(3)可操作地连接到所述反应室(2)，以便使所述反应室(2)和所述反应室(2)内侧的所述容器(5)振动。

7.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述反应室(2)连接到所述振动机构(3)，所述振动机构(3)布置在所述真空室(1)外侧。

8.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述反应室(2)和所述真空室(1)经至少一个阻尼元件(7)而连接在一起，所述阻尼元件(7)布置成防止将振动传递到所述真空室(1)。

9.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述真空室(1)包括至少一个加热器(8)，所述至少一个加热器(8)布置在所述真空室(1)的内壁和所述反应室(2)的外壁之间，以便间接加热所述反应室(2)内的所述颗粒物质。

10.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述真空室(1)包括至少一个加热器(8)，所述至少一个加热器(8)布置在所述真空室(1)的内顶板上，以便间接加热所述反应室(2)。

11.根据权利要求1或2所述的设备，其特征在于，所述反应室(2)经所述振动机构(3)而联接到所述真空室(1)。

12.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，所述前体系统(4)包括入口(4a)和出口(4b)，所述入口布置成将所述至少第一气态前体和第二气态前体供应到所述反应室(2)中，所述出口布置成将所述至少第一气态前体和第二气态前体排出所述反应室(2)。

13.根据权利要求12所述的设备，其特征在于，所述前体系统(4)布置成将所述至少第一气态前体和第二气态前体经所述反应室(2)进一步供应到所述容器(5)以及将所述至少第一气态前体和第二气态前体从所述容器(5)经所述反应室(2)排出所述反应室(2)。