[发明专利]包含含胺的表面活性剂的抛光组合物有效
| 申请号： | 201780038695.4 | 申请日： | 2017-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN109415597B | 公开（公告）日： | 2021-08-17 |
| 发明（设计）人： | A.W.海因斯;李常怡 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 宋莉;邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包含 表面活性剂 抛光 组合 | ||
1.化学-机械抛光组合物，包含：
(a)湿法氧化铈研磨剂，
(b)包含含胺的锚定基团及亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团的表面活性剂，其中该表面活性剂具有1000道尔顿至5000道尔顿的平均分子量，
(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸，及
(d)水，
其中该抛光组合物具有3至6的pH。
2.权利要求1的抛光组合物，其中，该湿法氧化铈研磨剂以0.05重量％至2重量％的量存在于该抛光组合物中。
3.权利要求1或2的抛光组合物，其中，该表面活性剂是包含下式的含胺的锚定基团的阳离子型梳状聚合物：
其中Ar为1,4-二取代的亚芳基或且n为2至10的整数。
4.权利要求3的抛光组合物，其中，该亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团具有式：-(CH(CH3)CH2O)x(CH2CH2O)yCH3，其中x及y为2至25的独立选择的整数。
5.权利要求1或2的抛光组合物，其中，该表面活性剂包含一个下式的单((二乙基氨基)烷基)醚锚定基团及一个亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团：
6.权利要求5的抛光组合物，其中，该亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团具有式：-C2H4(OCH2CH2)x(OCH(CH3)CH2)yOH，其中x及y为2至25的独立选择的整数。
7.权利要求6的抛光组合物，其中，该亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团的亚乙基氧单元对亚丙基氧单元的比率为1:1至1:3。
8.权利要求1或2的抛光组合物，其中，该表面活性剂以10ppm至500ppm的量存在于该抛光组合物中。
9.权利要求1或2的抛光组合物，其中，该芳族羧酸或杂芳族羧酸为吡啶羧酸。
10.化学机械抛光基板的方法，包括：
(i)提供基板，
(ii)提供抛光垫，
(iii)提供化学-机械抛光组合物，其包含：
(a)湿法氧化铈，
(b)包含含胺的锚定基团及亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团的表面活性剂，其中该表面活性剂具有1000道尔顿至5000道尔顿的平均分子量，
(c)芳族羧酸或杂芳族羧酸，及
(d)水，
其中该抛光组合物具有3至6的pH，
(iv)使该基板与该抛光垫及该化学-机械抛光组合物接触，及
(v)使该抛光垫及该化学-机械抛光组合物相对于该基板移动，以磨除该基板的表面的至少一部分来抛光该基板。
11.权利要求10的方法，其中，该湿法氧化铈研磨剂以0.05重量％至2重量％的量存在于该抛光组合物中。
12.权利要求10或11的方法，其中，该表面活性剂是包含下式的含胺的锚定基团的阳离子型梳状聚合物：
其中Ar为1,4-二取代的亚芳基或且n为2至10的整数。
13.权利要求12的方法，其中，该亚乙基氧-亚丙基氧稳定化基团具有式：-(CH(CH3)CH2O)x(CH2CH2O)yCH3，其中x及y为2至25的独立选择的整数。
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