[发明专利]高敏感肟酯光聚合起始剂以及包含该起始剂的光聚合组合物

说明书

本发明提供了一种肟酯苯基咔唑化合物，其可被用来作为光聚合的光起始剂。特别地，与该肟酯苯基咔唑化合物的肟酯部分中的氮原子形成双键的碳原子键结至该苯基咔唑基团，且直接键结至一(C₁‑C₂₀)烷基或(C₆‑C₂₀)芳基基团。本发明亦提供一种光聚合组合物，其包含该肟酯苯基咔唑化合物。该肟酯苯基咔唑化合物及该光聚合组合物具有改善的溶解度，高度光敏感，且在残膜比、图案稳定性、抗蚀层粘合性等方面展现极佳的物理特性。由于这些优点，该肟酯苯基咔唑化合物及该光聚合组合物适合用于LCD的黑色抗蚀层、彩色抗蚀层、外涂层、柱状间隔物及有机绝缘膜。

技术领域

本发明涉及一种高敏感肟酯光聚合起始剂以及包含该起始剂的光聚合组合物。

背景技术

光敏组合物是通过将光聚合起始剂加入到具有乙烯性不饱和键结(ethylenically unsaturated bond)的聚合性化合物中来制备。由于当使用365nm、405nm及436nm的多色光照射时，光敏组合物可通过聚合性化合物的聚合来固化，其可被用于光固化油墨(photocurable inks)、感光印刷版(photosensitive printing plates)、光致抗蚀层(photoresists)等。为了使该光敏组合物对于用于吸引力印刷的短波长光源具有敏感度，该光聚合起始剂亦需要具有高敏感度。

许多用于光敏组合物中的光聚合起始剂是公知的。例如：PCT国际公开文件WO 02/100903A1描述了具有肟酯部分的光起始剂。此一专利公开揭示了可被用来作为光起始剂的多种肟酯化合物的特定结构及合成方法。然而，在将此等所属技术领域中公知的肟酯化合物用来作为光聚合起始剂，其光分解产物附着到掩膜情况下，在印刷期间将造成图案缺陷，且导致低产率。

由于低的分解温度(≤240℃)，公知的光聚合起始剂在显影后的热固化期间被分解。这样的分解减损了光敏组合物的附着力。由于这些原因，需要具有优异的物理特性如图案稳定性及粘合性的高敏感度光聚合起始剂。

发明内容

因此，本发明的一个目的为提供一种高敏感度光聚合起始剂，包含一肟酯部分，当暴露于光时，不产生附着至掩膜的分解产物，且具有极佳的附着力、图案稳定性及敏感度。

本发明的另一目的为提供一种光起始剂化合物，其适度地溶于用于光聚合组合物的溶剂中，以及一种光敏化合物，其包含该光起始剂化合物。

本发明的又一目的为提供一种光敏组合物，其包含该肟酯化合物作为光起始剂，特别作为抗蚀层(resist)用于形成黑色矩阵(black matrix)、滤色器(color filter)、黑色柱状矩阵(black column matrix)或柱状间隔物图案(column spacer pattern)、具有改善的薄膜特性的有机绝缘膜(organic insulating film)或外涂层(overcoat)。

本发明的一个方面提供了一种肟酯苯基咔唑化合物，其作为用于光交联中的光起始剂，其中与肟酯部分中的氮原子形成双键的碳原子键结至该苯基咔唑基团，且直接键结至(C₁-C₂₀)烷基或(C₆-C₂₀)芳基基团，且其中该苯基咔唑基团可被一个或多个硝基取代。

该苯基咔唑基团可被一个或二个硝基取代。

本发明的另一方面提供了一种由式1所表示的肟酯苯基咔唑化合物：