[发明专利]偏振分离元件、光学系统和光学设备有效

专利信息
申请号: 201780039289.X 申请日: 2017-06-20
公开(公告)号: CN109416423B 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 小川晃一 申请(专利权)人: 奥林巴斯株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02B23/26
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;于英慧
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 偏振 分离 元件 光学系统 光学 设备
【权利要求书】:

1.一种偏振分离元件,其在第1基材与第2基材这2张基材之间具有交替层叠相对的低折射率物质和高折射率物质而构成的多层膜,其特征在于,

将低折射率物质层和与所述低折射率物质层相邻的高折射率物质层这2层成对地设为一个层叠结构,从所述第1基材起依次设第n个层叠结构为第n层叠结构,在设所述第n层叠结构的所述低折射率物质的光学膜厚为Ln、所述第n层叠结构的所述高折射率物质的光学膜厚为Hn的情况下,所述多层膜的一半以上的层叠结构满足以下的条件式(1),

H1:L1=Hn:Ln (1)

在所述多层膜中,具有满足以下的条件式(2a)、(2b)的多个层叠结构,

Hn=H1×(a+(n-2)×b) (2a)

Ln=L1×(a+(n-2)×b) (2b)

其中,

常数a为1.1~1.3,

常数b为0.3~0.6。

2.根据权利要求1所述的偏振分离元件,其特征在于,

在所述多层膜中,具有满足以下的条件式(3a)、(3b)的层叠结构,

Hn=H1×(a+(n-2)×b)×c1 (3a)

Ln=L1×(a+(n-2)×b)×c2 (3b)

其中,

常数c1、c2为0.8~1。

3.根据权利要求1所述的偏振分离元件,其特征在于,

在所述多层膜中,具有满足以下的条件式(4a)、(4b)的层叠结构,

Hn=H1×(a+(n-2)×b)×d1 (4a)

Ln=L1×(a+(n-2)×b)×d2 (4b)

其中,

常数d1、d2为0.7以上且小于1.2,d1≠d2,1.8d1+d22.2。

4.根据权利要求2、3中的任意一项所述的偏振分离元件,其特征在于,

在所述多层膜中,具有满足以下的条件式(5)的层叠结构,

Hn=H1×(a+(n-1)×b) (5)。

5.根据权利要求1所述的偏振分离元件,其特征在于,

所述多层膜从所述第1基材起依次具有第1层叠结构、第2层叠结构、第3层叠结构、第4层叠结构、第5层叠结构、第6层叠结构、第7层叠结构、第8层叠结构这8个层叠结构,

所述第2层叠结构、所述第3层叠结构、所述第4层叠结构、所述第5层叠结构、所述第8层叠结构满足所述条件式(1),

所述第2层叠结构、所述第3层叠结构、所述第4层叠结构满足所述条件式(2a)、(2b),

所述第5层叠结构满足以下的条件式(3a)、(3b),

Hn=H1×(a+(n-2)×b)×c1 (3a)

Ln=L1×(a+(n-2)×b)×c2 (3b)

其中,常数c1、c2为0.8~1,

所述第6层叠结构、所述第7层叠结构满足以下的条件式(4a)、(4b),

Hn=H1×(a+(n-2)×b)×d1 (4a)

Ln=L1×(a+(n-2)×b)×d2 (4b)

其中,常数d1、d2为0.7以上且小于1.2,d1≠d2,1.8d1+d22.2,

所述第8层叠结构满足以下的条件式(5),

Hn=H1×(a+(n-1)×b) (5)。

6.根据权利要求5所述的偏振分离元件,其特征在于,

所述常数a为1.23。

7.根据权利要求1所述的偏振分离元件,其特征在于,

在一对所述第1基材与所述第2基材之间具有层叠所述高折射率物质和所述低折射率物质这2种电介质而成的多层膜构造,在所述多层膜构造中,在35~60度的入射角度下,P偏振分量的透射率Tp和S偏振分量的透射率Ts为TpTs的关系,并且,透射率Tp与透射率Ts之差为30%以上。

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