[发明专利]光学装置、显示体、带显示体的装置、滤光镜、以及光学装置的制造方法

权利要求书

1.一种光学装置，具备：

具有基准面的支持部；

具备多个周期要素并作为电介质的周期结构体，其中所述多个周期要素在所述基准面上排列为具有亚波长周期的二维点阵状、并且是从所述基准面突出的凸部以及从所述基准面凹陷的凹部中的任一者；以及

位于所述周期结构体的表面、且具有跟随所述周期结构体的表面形状的形状的金属层，其中所述周期结构体的表面是包括所述周期要素的表面以及所述基准面当中的包围所述周期要素的区域的面。

2.一种显示体，其具有权利要求1所述的光学装置的构成，

所述显示体在所述基准面上包括：

厚度为10nm以上200nm以下的第1光栅层；

厚度为10nm以上200nm以下的第2光栅层；以及

厚度大于所述第1光栅层及所述第2光栅层的各自厚度、且在厚度方向上被夹在所述第1光栅层与所述第2光栅层之间的中间光栅层，

所述第1光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第1电介质层，以及具有将各个第1电介质层包围的网格状的第1金属层，

所述中间光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第1中间电介质层，以及具有将各个第1中间电介质层包围的网格状、且介电常数比所述第1中间电介质层的介电常数小的第2中间电介质层，

所述第2光栅层具备：排列为作为正方形阵列和六边形阵列中的任一者的岛状阵列的多个第2金属层，以及具有将各个第2金属层包围的网格状的第2电介质层，

所述周期要素是所述凸部，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层构成了所述周期要素，所述第1金属层和所述第2金属层包括在所述金属层中，

所述第1光栅层中的所述第1金属层的体积比率大于所述第2光栅层中的所述第2金属层的体积比率，同时所述第2光栅层中的所述第2金属层的体积比率大于所述中间光栅层中的金属材料的体积比率，

所述第1电介质层的宽度相对于所述第1电介质层的结构周期的比率、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的结构周期的比率分别为0.25以上0.75以下。

3.根据权利要求2所述的显示体，其中，所述第1金属层和所述第2金属层分别具有相对于可见区域的光的复介质常数，该复介质常数的实部为负值。

4.根据权利要求2或3所述的显示体，其中，所述第1电介质层的宽度相对于所述第1电介质层的结构周期的比率、以及所述第2金属层的宽度相对于所述第2金属层的结构周期的比率分别为0.40以上0.60以下。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的显示体，其中，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层是一体的结构体，

所述第1光栅层的厚度为100nm以下，

所述第2光栅层的厚度为100nm以下，

所述中间光栅层的厚度为150nm以下。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的显示体，其中，构成所述第1金属层的材料与构成所述第2金属层的材料相同，

所述第2电介质层为空气层，

所述第1电介质层的折射率与所述第1金属层的折射率之差大于所述第2电介质层的折射率与所述第2金属层的折射率之差。

7.根据权利要求2至6中任一项所述的显示体，其中，所述第1电介质层和所述第1中间电介质层是一体的结构体，

所述第2中间电介质层和所述第2电介质层是一体的结构体。

8.根据权利要求2至7中任一项所述的显示体，其中，所述中间光栅层进一步具备位于所述第1中间电介质层的侧面上、且被夹在所述第1中间电介质层与所述第2中间电介质层之间的中间金属层，

所述中间金属层和所述第2金属层是一体的结构体，所述中间金属层包括在所述金属层中，同时为了抑制可见区域的光的反射，所述中间金属层在所述侧面上的厚度在越接近于所述第1金属层的部位处越薄。