[发明专利]用于在插塞研磨出或清理/修井操作期间建立井性能的方法和系统

权利要求书

1.一种用于表征水力压裂的含烃地层的方法，该含烃地层由具有多个间隔的井穿过，其中井的间隔通过相应的插塞彼此水力地隔离；其中在井作业期间，返回流体从多个开放间隔流回地面设施，该方法包括：

分析在井操作期间从特定间隔流回到地面设施的返回流体的流动特性，其中所述特定间隔是通过插塞研磨出操作打开的新打开的井间隔；和

基于这样的流动特性来表征邻近特定间隔的水力压裂地层的至少一个局部地层特性；

其中返回流体的流动特性的分析利用返回流体的地面流动特性的测量结果和井下压力测量结果来计算和建模来自所有打开的间隔的返回出流，所有打开的间隔包括新打开的间隔；

其中通过将新打开的间隔的返回出流的贡献与来自所有打开的间隔的返回出流的先前模型隔离，返回流体的流动特性的分析计算新打开的间隔的返回出流，其中在研磨出新打开的间隔之前确定先前模型；以及

其中新打开的间隔的返回出流的贡献由在连续插塞研磨出操作和相应间隔内的模型的增量变化得出。

2.根据权利要求1所述的方法，其中：

通过从包括新打开的间隔在内的所有打开的间隔的返回出流中减去来自先前模型的返回出流，导出新打开的间隔的返回出流贡献的贡献。

3.根据权利要求1所述的方法，其中：

特定井间隔是经过井清理或修井操作的间隔。

4.根据权利要求1至3其中之一所述的方法，其中：

返回流体的流动特性由位于地面的多相流量计的输出得出。

5.根据权利要求1所述的方法，其中：

返回流体包括研磨流体，该研磨流体被供应到井下研磨钻头以研磨出插塞。

6.根据权利要求1所述的方法，其中：

供应到井下研磨钻头的研磨流体的流体静压力大于地层压力；以及

返回流体的流动特性的分析考虑了：

当供应到井下研磨钻头的研磨流体的流体静压力大于地层压力时，研磨流体到新打开的井间隙的裂缝中的出流；

当供应到井下研磨钻头的研磨流体的流体静压力小于地层压力时，来自于新打开的井间隔的裂缝的流体的入流。

7.根据权利要求6所述的方法，其中：

至少一个局部地层特性是由计算的到新打开的井间隔的裂缝中的研磨流体的出流得到的，和/或

至少一个局部地层特性是由计算的从裂缝和/或地层进入到新打开的间隔中的水、油、气体和/或固体的入流得到。

8.根据权利要求6所述的方法，其中：

研磨流体是水基或油基的，并且返回流体的流动特性的分析分析了地面处的水相的流动特性，以计算进入到新打开的井间隔的裂缝中的研磨流体的出流。

9.根据权利要求6所述的方法，其中：

返回流体的流动特性的分析分析地面处的多个不同相的流动特性，以计算从裂缝和/或地层进入新打开的间隔的水、油、气体和/或固体。

10.根据权利要求1所述的方法，其中：

返回流体的流动特性的分析基于以下其中之一：

在稳态条件下收集的数据，在所述稳态条件下井压力不存在地面控制的变化，和/或

在井压力存在地面控制的瞬态变化的条件下收集的数据。