[发明专利]傅里叶变换多路光谱成像装置

权利要求书

1.傅里叶变换多路光谱成象装置(100)，所述装置具有：

-光电检测器(120)，包括与所述光电检测器(120)的光敏表面(121)齐平的多个光敏位点，

-双主波干涉仪网(140)，每个干涉仪都包括腔室(141a)，其由彼此相对且与所述光敏表面(121)平行的两个端面(141b,141c)限定，每个干涉仪(141)的两个端面(141b,141c)隔开间隙h，该间隙从一个干涉仪(141)到另一个干涉仪(141)而有所不同，所述干涉仪网(140)的干涉仪(141)沿着与所述光敏表面(121)平行的平面进行布置，

-显微透镜网(150)，布置在与所述光敏表面(121)平行的平面上，

所述显微透镜网(150)的每个显微透镜(151)与所述双主波干涉仪网(140)的干涉仪(141)配对，形成光学部件对(160)，所述光学部件对(160)包括与所述光敏表面(121)一致的像焦面，所述光学部件对与所述光敏表面(121)的部分(122)相对。

2.根据权利要求1所述的光谱成像装置，其中，所述光谱成像装置(100)还包括信号分离器网(220)，每个信号分离器(221)与所述光学部件对(160)配对，并且布置成使得由每个光学部件对(160)在所述光敏表面(121)处形成的图像限于所述光敏表面(121)的与该光学部件对(160)相对的部分(122)。

3.根据权利要求2所述的光谱成像装置，其中，每个信号分离器(221)包括第一侧壁，所述第一侧壁垂直于所述光敏表面，并且有利地支靠所述光敏表面。

4.根据权利要求2或3所述的光谱成像装置，其中，每个信号分离器(221)包括第二侧壁，每个第二侧壁在光学上隔离两个相邻的双主波干涉仪。

5.根据权利要求1至4中之一所述的光谱成像装置，其中，所述光谱成像装置包括第一下板(170)，所述第一下板(170)包括第一端面(171)和与所述第一端面(171)平行的第二端面(172)，所述第二端面(172)与第二下板(180)的第一端面(181)平行且相对，所述第二下板(180)还包括第二端面(182)，所述显微透镜网(150)布置在所述第二下板的第二端面上，所述装置还包括阶梯部(142)，其形成于选自所述第一下板(170)的第二端面(172)和所述第二下板(180)的第一端面(181)的两个端面之一上，所述两个端面中的另一个是平面照准仪，以致在所述两个端面之一上形成的阶梯部(142)与所述平面照准仪一起形成所述双主波干涉仪网(140)，每个阶梯部(142)形成在与其他阶梯部(142)不同的深度处，且沿着与所述光敏表面(121)垂直的方向与显微透镜垂直对齐。

6.根据权利要求5所述的光谱成像装置，其中，所述第一下板(170)的第二端面(172)的反射系数为5％至90％。

7.根据权利要求5或6所述的光谱成像装置，其中，所述第二下板(180)的第一端面(181)的反射系数为5％至90％。

8.根据权利要求4至6中之一所述的光谱成像装置，其中，所述阶梯部(142)具有方形或矩形或六边形的形状。

9.根据权利要求1至8中之一所述的光谱成像装置，其中，所述双主波干涉仪网(140)的干涉仪(141)按照二维矩阵、有利地是方形二维矩阵进行分布。

10.根据权利要求1至9中之一所述的光谱成像装置，其中，所述光电检测器(120)、所述双主波干涉仪网(140)、以及所述显微透镜网(150)都布置在低温恒温室(190)中，有利地，所述低温室(190)包括开口(200)。

11.根据权利要求1至10中之一所述的光谱成像装置，其中，所述显微透镜(151)中的每个都具有凸面，所述凸面用防反射覆盖层进行处理，有利地，防反射处理是介电材料层、有利地是ZnS层。