[发明专利]奥氏体合金材和奥氏体合金管

权利要求书

1.一种奥氏体合金材，其在母材所具有的表面中的至少一部分具备厚度0.1～50μm的包含铬氧化物的覆膜，

所述覆膜的Cr浓度成为最大的深度位置处的化学组成以在除O、C和N之外的成分中所占的比率计、以原子％计含有Cr：50％以上，

所述母材的化学组成以质量％计为

C：0.001～0.6％、

Si：0.01～5.0％、

Mn：0.1～10.0％、

P：0.08％以下、

S：0.05％以下、

Cr：15.0～55.0％、

Ni：30.0～80.0％、

N：0.001～0.25％、

O：0.02％以下、

Mo：0～20.0％、

Cu：0～5.0％、

Co：0～5.0％、

W：0～10.0％、

Ta：0～6.0％、

Nb：0～5.0％、

Ti：0～1.0％、

B：0～0.1％、

Zr：0～0.1％、

Hf：0～0.1％、

Al：0～1.0％、

Mg：0～0.1％、

Ca：0～0.1％、

余量：Fe和杂质。

2.根据权利要求1所述的奥氏体合金材，其中，所述母材的化学组成以质量％计含有选自

Mo：0.01～20.0％、

Cu：0.01～5.0％、

Co：0.01～5.0％、

W：0.01～10.0％、

Ta：0.01～6.0％、

Nb：0.01～5.0％、

Ti：0.01～1.0％、

B：0.001～0.1％、

Zr：0.001～0.1％、

Hf：0.001～0.1％、

Al：0.01～1.0％、

Mg：0.0005～0.1％、和

Ca：0.0005～0.1％中的1种以上。

3.根据权利要求1或权利要求2所述的奥氏体合金材，其中，所述覆膜中包含选自Cu、V、W、Mo和贵金属元素中的1种以上。

4.根据权利要求1～权利要求3中任一项所述的奥氏体合金材，其中，所述覆膜的表层中的化学组成满足下述(i)和(ii)式，

[Cu]_S+[V]_S+[W]_S+[Mo]_S+[PM]_S≥30···(i)

[Cr]_S≤70···(ii)

其中，所述式中的各符号表示覆膜的表层中的各元素在除O、C和N之外的成分中所占的原子％比率，PM是指贵金属元素。

5.根据权利要求1～权利要求4中任一项所述的奥氏体合金材，其中，所述Cr浓度成为最大的深度位置处的所述化学组成满足下述(iii)式，

0.5≤[Cu]_P+[V]_P+[W]_P+[Mo]_P+[PM]_P≤50···(iii)

其中，所述式中的各符号表示Cr浓度成为最大的深度位置处的各元素在除O、C和N之外的成分中所占的原子％比率，PM是指贵金属元素。

6.根据权利要求1～权利要求5中任一项所述的奥氏体合金材，其中，所述覆膜含有：包含选自Cu、V、W和Mo中的1种以上以及Cr的复合氧化物。

7.根据权利要求1～权利要求6中任一项所述的奥氏体合金材，其中，所述覆膜具有使SO₃分解的作用。

8.根据权利要求1～权利要求7中任一项所述的奥氏体合金材，其中，在每单位面积的SO₃供给速度：0.0071g/cm²/分钟和反应温度：850℃的条件下，SO₃的分解速度为8.0×10^-5g/cm²/分钟以上。