[发明专利]显微镜的光学路径中盖玻片的倾斜度测量和校正有效
申请号: | 201780041024.3 | 申请日: | 2017-06-29 |
公开(公告)号: | CN109416461B | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | J.西本摩根;T.卡尔克布伦纳 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
主分类号: | G02B21/00 | 分类号: | G02B21/00;G02B21/24;G02B21/36 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王蕊瑞 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显微镜 光学 路径 盖玻片 倾斜度 测量 校正 | ||
1.一种用于在显微镜(1)的束路径中调整样品保持件(7)的方法,
其中将照明辐射(BS)中的至少一个束指引到所述样品保持件(7)上,
通过检测器(19)捕获由所述样品保持件(7)反射的所述照明辐射的分量(BSref)并且确定捕获的由所述样品保持件(7)反射的所述照明辐射的分量(BSref)的测量值;
取决于所述测量值确立所述样品保持件(7)关于所述束路径的目前的实际的定位方式,
将确立的实际的定位方式与预期的定位方式比较,并且
产生用于修改所述实际的定位方式的控制命令,所述控制命令的执行引起所述样品保持件(7)移动到所述预期的定位方式中,
其中,
使用实施为倒置的显微镜(1)的显微镜(1),该显微镜包括:
具有第一光轴(A1)的照明物镜(2),其中所述第一光轴(A1)与由X轴(X)和正交于所述X轴(X)的Y轴(Y)所跨越的样品平面(4)相交,
或
具有第一光轴(A1)的照明物镜(2),其中所述照明物镜(2)实施为通过所述照明辐射(BS)产生光片(6),其中至少部分地在由X轴(X)和正交于所述X轴(X)的Y轴(Y)所跨越的样品平面(4)中产生或可产生所述光片(6),
以及具有第二光轴(A2)的检测物镜(3),所述检测物镜(3)实施为检测来自所述样品平面(4)的光,
其中,
所述照明物镜(2)和所述检测物镜(3)关于彼此并且关于所述样品平面(4)对准,使得所述第一光轴(A1)和所述第二光轴(A2)在所述样品平面(4)中相交并且包含其间的实质的直角,并且
所述第一光轴(A1)和所述第二光轴(A2)各包含与第三轴线(A3)成不同于零的角,所述第三轴线(A3)在Z轴(Z)的方向上正交地指向所述样品平面(4)并且用作参考轴线(B),
以及
在步骤1中,
所述样品保持件(7)具有对所述照明辐射(BS)透明、包含第一侧面(OS)和第二侧面(US)的基底,将所述样品保持件(7)在所述Z轴(Z)的方向上移位,直到由所述基底的第一侧面(OS)反射的照明辐射的分量(BSref)被捕获,并且修改所述样品保持件(7)和所述检测器(19)关于彼此的相对位置使得捕获的分量(BSref)的实际的相对位置接近所述检测器(19)上的预期的相对位置,
步骤2中,
借助于确立实际的相对位置与预期的相对位置的角度偏离来检查所述基底的第一侧面(OS)关于所述Y轴(Y)的倾斜的存在,
如果确定角度偏离大于可容许的角度偏离,则绕所述Y轴(Y)旋转所述样品保持件(7)直到所述角度偏离最小化,并且
检查在所述Z轴(Z)的方向上预期的位置与实际的位置的偏离的发生,并且如果不容许的偏差发生则重复第一步骤1。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,将所述照明辐射(BS)以光片(6)的形式指引到所述样品保持件(7)上。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述照明辐射(BS)是具有自重构射线的辐射。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述照明辐射(BS)以贝塞尔束、相干贝塞尔束、分段贝塞尔束、sinc3束、艾里束或Mathieu束的形式被指引到所述样品保持件(7)上。
5.根据权利要求2以及权利要求3或4所述的方法,其特征在于,以与用于成像的照明辐射(BS)的波长不同的波长的照明辐射(BS)来产生所述光片(6)。
6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,
步骤3中,
借助于将所述样品保持件(7)在所述Y轴(Y)的方向上移位且由所述检测器(19)上所述捕获的反射分量(BSref)的迁移确定与所述Y轴(Y)的方向的偏离,来检查所述第一侧面(OS)在所述Y轴(Y)的方向上的对准,并且
如果迁移发生,则所述样品保持件(7)绕所述X轴(X)旋转直到不再发生迁移。
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