[发明专利]研磨磨粒、其制造方法、包含该研磨磨粒的研磨浆料及使用该研磨浆料的研磨方法在审
| 申请号： | 201780041080.7 | 申请日： | 2017-06-26 |
| 公开（公告）号： | CN109601005A | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 细井大祐;町田新吾;繁田岳志 | 申请（专利权）人： | 日本百考基股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;B24B37/00;C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 陈建全 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨磨粒 谷氨酸 氧化铈粒子 电动电位 研磨粒子 优选 添加剂 制造 湿式粉碎 研磨浆料 研磨 研磨浆 氧化铈 覆盖 | ||
1.一种研磨磨粒，其由表面被添加剂覆盖、且在pH为8以下时电动电位为正的无机研磨粒子形成。
2.根据权利要求1所述的研磨磨粒，其中，所述添加剂为皮考啉酸或谷氨酸，所述无机研磨粒子为氧化铈粒子。
3.根据权利要求2所述的研磨磨粒，其是通过下述的研磨磨粒的制造方法来制造的，该研磨磨粒的制造方法具有在皮考啉酸或谷氨酸的存在下将氧化铈进行湿式粉碎的工序。
4.一种研磨浆料，其包含权利要求1～3中任一项所述的研磨磨粒。
5.一种研磨浆料，其包含研磨磨粒、添加剂和水，
其中，所述研磨磨粒由表面被添加剂覆盖、且在pH为8以下时电动电位为正的无机研磨粒子形成，
所述添加剂是在所述研磨浆料中会产生正电荷的物质。
6.根据权利要求5所述的研磨浆料，其中，所述添加剂为皮考啉酸或谷氨酸，所述无机研磨粒子为氧化铈粒子。
7.根据权利要求5或6所述的研磨浆料，其中，所述研磨浆料进一步包含非离子系高分子化合物。
8.根据权利要求5～7中任一项所述的研磨浆料，其中，在所述研磨浆料中存在的游离状态的所述添加剂的浓度以研磨浆料总质量为基准计为0.01质量％～1质量％。
9.根据权利要求5～8中任一项所述的研磨浆料，其被用于在pH为3以上时电动电位为负的被研磨物的研磨。
10.根据权利要求4～9中任一项所述的研磨浆料，其中，所述研磨浆料的pH为3～9。
11.根据权利要求4～9中任一项所述的研磨浆料，其中，所述研磨浆料的pH为6～8。
12.一种被研磨物的研磨方法，其使用权利要求4～11中任一项所述的研磨浆料对被研磨物进行研磨。
13.一种研磨磨粒的制造方法，该研磨磨粒由表面被皮考啉酸或谷氨酸覆盖、且在pH为8以下时电动电位为正的氧化铈粒子形成，
该制造方法具有在皮考啉酸或谷氨酸的存在下将氧化铈进行湿式粉碎的工序。
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