[发明专利]掩模保持装置有效
申请号: | 201780041192.2 | 申请日: | 2017-07-12 |
公开(公告)号: | CN109417046B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
发明(设计)人: | 米泽良 | 申请(专利权)人: | 株式会社V技术 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 肖茂深 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 装置 | ||
1.一种掩模保持装置,其特征在于,具备:
平台;
掩模保持部,其具有沿铅垂方向保持作为被检查对象的掩模的框状的框架、及使所述框架旋转的旋转机构;以及
移动部,其载置于所述平台,并且载置有所述掩模保持部,该移动部设置为能够沿所述平台的长度方向移动,
所述旋转机构具有在所述框架的位于下侧的框部分的两端附近设置的第一螺母构件及第二螺母构件、与所述第一螺母构件及所述第二螺母构件分别螺合的第一螺钉构件及第二螺钉构件、以及使所述第一螺钉构件与所述第二螺钉构件旋转不同的量的旋转驱动部,
在所述移动部沿铅垂方向设置有第一销及第二销,
所述第一螺钉构件在所述第一销的上方设置在俯视观察时与所述第一销重叠的位置,
所述第二螺钉构件在所述第二销的上方设置在俯视观察时与所述第二销重叠的位置。
2.根据权利要求1所述的掩模保持装置,其特征在于,
在所述框架的侧面设置有用于使光向入射方向返回的反射镜,
所述旋转驱动部具有致动器、与所述第一螺钉构件同轴地设置且使所述第一螺钉构件旋转的第一链轮、与所述第二螺钉构件同轴地设置且使所述第二螺钉构件旋转的第二链轮、致动器的驱动轴、以及将所述第一链轮及所述第二链轮连结的动力传递部,
在俯视观察时,在将所述反射镜与所述第二螺钉构件的距离设为距离A,将所述反射镜与所述第一螺钉构件的距离设为距离B时,所述第一链轮的齿数α与所述第二链轮的齿数β具有齿数α:齿数β=距离A:距离B的关系。
3.根据权利要求1或2所述的掩模保持装置,其特征在于,
在所述平台的上表面形成有沿着所述平台的长度方向的槽,
所述移动部具有朝向所述槽的底面喷出空气的下面气囊、朝向所述槽的侧面喷出空气的侧面气囊、以及供所述下面气囊及所述侧面气囊设置的移动构件主体,
所述第一销及所述第二销的下端设置于所述下面气囊,且上端设置于所述移动构件主体,
所述第一螺钉构件及所述第二螺钉构件的下端设置于所述移动构件主体,
所述移动构件主体沿所述槽移动。
4.根据权利要求3所述的掩模保持装置,其特征在于,
所述下面气囊具有在所述移动构件主体的第一端附近设置的第一下面气囊、以及在所述移动构件主体的与所述第一端相反一侧的第二端附近设置的第二下面气囊,
在所述第一下面气囊的底面中央部形成有喷出空气的第一开口部,
在所述第二下面气囊的底面中央部形成有喷出空气的第二开口部,
所述第一螺钉构件及所述第一销设置在俯视观察时与所述第一开口部重叠的位置,
所述第二螺钉构件及所述第二销设置在俯视观察时与所述第二开口部重叠的位置。
5.根据权利要求3所述的掩模保持装置,其特征在于,
在所述移动构件主体的上表面侧分别设置有第一角接触球轴承和第二角接触球轴承,所述第一角接触球轴承设置在其中心轴与所述第一销一致的位置,所述第二角接触球轴承设置在其中心轴与所述第二销一致的位置,
所述第一螺钉构件的下端被轴支承于所述第一角接触球轴承,所述第二螺钉构件的下端被轴支承于所述第二角接触球轴承。
6.根据权利要求1或2所述的掩模保持装置,其特征在于,
所述掩模保持装置具有使所述移动部沿所述平台的长度方向移动的第一直线电动机、以及追随所述第一直线电动机而驱动的第二直线电动机,
在所述移动部设置有所述第一直线电动机的可动件,
在所述框架的上侧以相对于水平方向倾斜的方式设置有引导构件,
在所述引导构件以能够沿所述引导构件移动的方式设置有所述第二直线电动机的可动件,并且设置有使所述第二直线电动机的可动件相对于所述引导构件固定的固定构件。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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