[发明专利]溅射装置用成膜单元

说明书

本发明提供一种溅射装置用成膜单元，其不会损害靶相对于磁铁单元自由相对移动的功能，结构简单且维护性良好。本发明的溅射装置用成膜单元(FU)，其中在支撑板(1)上设置有与背板(3)接合的靶(2)；磁铁单元(5)；以及使靶相对磁铁单元沿支撑板进行往返移动的驱动装置(8)。在背板上突出设置与其冷媒通道(31)连通的供应管(32)和排出管(33)，支撑板上开设长边在靶往返移动方向上的隙孔(13)，供应管和排出管分别插通所述隙孔(13)。在支撑板下表面上设置罩体(71)，所述罩体包括隙孔地分别围绕从供应管和排出管的隙孔向下方突出的部分保持气密状态，从罩体向往返移动方向突出的供应管和排出管的部分上分别外套波纹管(72)，并连接驱动装置的驱动部。

技术领域

本发明涉及一种溅射装置用成膜单元，具体而言涉及使靶相对于磁铁单元往返移动的磁控溅射装置用的溅射装置用成膜单元。

背景技术

这种溅射装置用成膜单元例如已知有专利文献1。其具有装设在进行成膜处理的真空室的内壁面上的箱状框体(位移部)，在框体朝向真空室内的侧面上设置有位移板。在位移板上，间隔支撑体在单侧固定有作为阴极的结合了靶的背板。再有，在支撑体内固定设置有磁铁单元，其位于位移板上设置的开口的内侧，使漏磁场作用在靶表面。

框体内由间隔壁划分成两个空间，一个空间通过开设在框体上的通孔与靶侧的空间即被真空排气并进行成膜处理的真空室内相连通。另一空间设置有驱动电机，驱动电机的驱动轴贯通间隔壁向一侧的空间内突出，该突出的驱动轴的前端部设置有连接杆，连接杆与位移板连接。并且，当使驱动电机驱动时，间隔支撑板固定在位移板上的背板进而靶相对于磁铁单元作相对移动。由此，向真空室内导入放电用稀有气体或反应性溅射时的反应气体，向靶例如施加带负电位的规定电力溅射靶时，即使移动靶也不会改变磁铁单元或朝向真空室内的靶前方设置的遮挡板(阳极)的相对位置，可抑制靶表面等离子体的位置或密度等等离子体状态的变化。

然而，上述现有技术中，由于成膜单元的框体直接装设在真空室的内壁面上，所以存在成膜单元拆装麻烦且不便维护的问题。再有，溅射过程中需要向背板提供冷却水等冷媒，但需要在真空室的壁面上另行设置供给管或水管，造成装置构成复杂化。

现有技术文献

【专利文献】

【专利文献1】国际公开第2014/080815号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

鉴于上述内容，本发明的课题是提供一种溅射装置用成膜单元，其不会损害靶相对于磁铁单元自由相对移动的功能，也无需对真空室设置冷媒用的供给管和排出管，结构简单且维护性良好。

解决技术问题的手段

为解决上述课题，本发明的溅射装置用成膜单元，其具有对真空室开口装卸自由的支撑板；其以支撑板一面侧为上，在该支撑板上具有下表面与背板接合的靶，以及固定设置在背板和支撑板之间使漏磁场作用在靶上的磁铁单元；其特征在于：其还具有驱动装置，所述驱动装置在通过溅射电源向靶施加电力对靶进行溅射期间，使靶相对磁铁单元沿支撑板进行往返移动；在背板上突出设置冷媒的供应管和排出管，所述供应管和排出管与所述背板内部形成的冷媒通道连通，支撑板上开设长边在靶往返移动方向上的隙孔，供应管和排出管分别插通所述隙孔，在支撑板下表面上设置罩体，所述罩体包括隙孔地分别围绕从供应管和排出管的隙孔向下方突出的部分保持气密状态，从罩体向往返移动方向突出的供应管和排出管的部分上分别外套波纹管，使驱动装置的驱动部与供应管和排出管中至少一方相连。