[发明专利]蔽荫掩模沉积系统及其方法

权利要求书

1.一种用于通过蔽荫掩模中的通孔布置来将材料图案沉积于衬底的第一区域上的系统，其中所述衬底包含第一主表面及包括所述第一区域的第二主表面，且其中所述蔽荫掩模包含第三主表面及包括所述通孔的第四主表面，所述系统包括：

第一卡盘，其用于固持所述衬底，所述第一卡盘经设定尺寸及布置以将第一吸力选择性地施予所述第一主表面；

第二卡盘，其用于固持所述蔽荫掩模，所述第二卡盘包括支架，其环绕使所述材料能够通过所述第二卡盘而到所述通孔的第一开口，其中所述支架具有安装表面，其经配置以在所述蔽荫掩模安装在所述第二卡盘中时通过在所述第四主表面中引致拉伸应力来减轻所述蔽荫掩模的重力引致下垂，且其中所述支架具有横截面，其中所述安装表面在接近所述第一开口的第一边缘与远离所述第一开口的第二边缘之间延伸，所述安装表面及第一边缘在第一平面中的第一点处交会，且所述安装表面及所述第二边缘在第二平面中的第二点处交会，且其中所述安装表面从所述第一边缘到所述第二边缘向下锥形化，且所述第二卡盘经设定尺寸及布置以将第二吸力选择性地施予所述第三主表面；及

对准系统，其用于控制所述第一卡盘及所述第二卡盘的相对位置以使所述蔽荫掩模及所述衬底对准。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一卡盘、所述第二卡盘及所述对准系统共同实现所述衬底与所述蔽荫掩模之间具有小于或等于10微米的间距时的所述衬底及所述蔽荫掩模的对准。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述第一卡盘、所述第二卡盘及所述对准系统共同实现所述衬底与所述蔽荫掩模之间具有大于0微米的间距时的所述衬底及所述蔽荫掩模的对准。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述安装表面是非线性的。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述第二卡盘进一步包含所述第一开口内的支撑栅格，所述支撑栅格经设定尺寸及布置以减轻所述蔽荫掩模的重力引致下垂。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第二卡盘经设定尺寸及布置以影响所述蔽荫掩模的曲率。

7.一种用于通过蔽荫掩模中的通孔布置来将材料图案沉积于衬底的第一区域上的方法，其中所述衬底包含第一主表面及具有第一横向范围的第二主表面，所述第二主表面包括所述第一区域，且其中所述蔽荫掩模包含第三主表面及包括所述通孔的第四主表面，所述方法包括：

将所述衬底固持于第一卡盘中，所述第一卡盘将第一吸力选择性地施予所述第一主表面；

将所述蔽荫掩模固持于第二卡盘中，所述第二卡盘将第二吸力选择性地施予所述第三主表面，其中所述第二卡盘包含支架，其环绕使包括所述材料的粒子能够通过所述第二卡盘而到所述通孔的第一开口，且其中所述支架包含安装表面，其经配置以在所述蔽荫掩模固持于所述第二卡盘中时在所述第四主表面中引致拉伸应力，且所述支架具有横截面，其中所述安装表面在接近所述第一开口的第一边缘与远离所述第一开口的第二边缘之间延伸，且进一步其中所述安装表面及第一边缘在第一平面中的点处交会，且所述安装表面及所述第二边缘在第二平面中的点处交会，所述安装表面从所述第一边缘到所述第二边缘向下锥形化；

使所述衬底及所述蔽荫掩模对准，使得所述第二主表面及所述第四主表面间隔小于或等于10微米的距离；及

使包括所述材料的粒子流通过所述第二卡盘及所述蔽荫掩模。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述衬底及所述蔽荫掩模经对准使得所述第二主表面及所述第四主表面间隔大于0微米且小于或等于10微米的距离。

9.根据权利要求7所述的方法，其中通过在包含所述通孔的所述蔽荫掩模的区域中机械地支撑所述蔽荫掩模来减轻所述重力引致下垂。

10.根据权利要求9所述的方法，其进一步包括：提供所述第二卡盘，使得所述第二卡盘包含支撑栅格，其定位于所述第一开口中，其中所述支撑栅格经设定尺寸及布置以物理地支撑所述蔽荫掩模。