[发明专利]处理鲁尔接头的方法和装置在审
申请号: | 201780041755.8 | 申请日: | 2017-04-19 |
公开(公告)号: | CN109641073A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 昂尼查·布拉帕查瑞;查昂德·梭蓬巴尼;查尔斯·潘;艾什瓦尔雅·拉贾 | 申请(专利权)人: | 凯瑟凯尔有限责任公司 |
主分类号: | A61L2/10 | 分类号: | A61L2/10;A61M39/16 |
代理公司: | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人: | 韩景漫;杨永波 |
地址: | 美国纽约*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 鲁尔接头 医疗设备 紫外线辐射来源 处理设备 方法和装置 紫外线辐射 文本描述 灭菌 导管 发射 配置 | ||
1.一种鲁尔接头处理设备,包含:
具有至少一个紫外线辐射来源的第一外壳组件;以及
可逆地耦合至所述第一外壳组件的第二外壳组件,所述第二外壳组件还包含
包括至少两个鲁尔接头的处理室,以及
至少一个紫外线辐射来源;
其特征在于,所述第一外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源可以被配置为,当所述第一外壳组件与所述第二外壳组件接合或从所述第二外壳组件分离时,向所述处理室之中发射紫外线辐射,以及
其中,所述第二外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源可以被配置为,当所述第一外壳组件与所述第二外壳组件接合或从所述第二外壳组件分离时,向所述处理室之中发射紫外线辐射。
2.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述紫外线辐射是波长为约100纳米至约280纳米的UV-C辐射。
3.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源可以被配置为,沿所述处理室的大致轴向长度向所述处理室之中发射紫外线辐射。
4.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第二外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源可以被配置为,沿所述处理室内成角度的方向向所述处理室之中发射紫外线辐射。
5.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件通过附接手段可逆地结合至所述第二外壳组件。
6.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述至少一个紫外线辐射来源是发光二极管。
7.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,第一医疗设备与所述至少两个鲁尔接头中的一个鲁尔接头接合且第二医疗设备与所述至少两个鲁尔接头中的另一个鲁尔接头接合时,在所述处理室内形成一条流体通道。
8.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述至少一个紫外线辐射来源由一个或多个电池供电,所述一个或多个电池中的每个放置在所述第一外壳组件、所述第二外壳组件和一个附加外壳组件三者中至少一个的内部。
9.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件和所述第二外壳组件中的至少一个还包含至少一个集成电路,所述至少一个集成电路被配置为:
所述第一外壳组件与所述第二外壳组件接合或从所述第二外壳组件分离时,进行检测。
10.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件和所述第二外壳组件中至少一个还包含至少一个集成电路,所述至少一个集成电路被配置为:
控制所述第一外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源中至少一个来源的操作和所述第二外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源中至少一个来源的操作。
11.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,还包含超控开关,所述超控开关被配置为开启,或关闭,或开启和关闭所述第一外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源和所述第二外壳组件的所述至少一个紫外线辐射来源中的一个或多个来源。
12.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件和所述第二外壳组件中的至少一个的至少一个部分由丙烯酸材料、聚碳酸酯、聚乙烯亚胺、聚醚醚酮、聚偏氟乙烯等其中至少一项构成。
13.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述至少一个鲁尔接头和所述第二外壳组件中至少一个对紫外线辐射至少部分透明。
14.根据权利要求1所述的鲁尔接头处理设备,其特征在于,所述第一外壳组件和所述第二外壳组件通过注塑成型、热成型、模压成型3D打印中至少一项制造。
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