[发明专利]用于光学应用的折射率匹配层在审
| 申请号： | 201780042230.6 | 申请日： | 2017-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN109416957A | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 刘亚群;黄红敏;海伦·X·徐 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B1/04;H01B1/02;G06F3/044 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射率匹配层 透明导电层 基底 分层结构 光学应用 折射率差 上表面 减小 邻近 | ||
1.一种分层结构，所述分层结构包括：
基底；
透明导电层，所述透明导电层沿所述基底的上表面定位；和
折射率匹配层，所述折射率匹配层邻近所述透明导电层定位，所述折射率匹配层包括：
金属氧化物层，所述金属氧化物层含钛并且具有至少1.5的折射率，所述金属氧化物层具有以下所述结构：
其中每个R1为独立的氢、具有1至6个碳的烷基基团、亚烷基氧、或钛连接的基团；
其中每个R2为独立的氢或烷基基团。
2.根据权利要求1所述的分层结构，其中所述折射率匹配层还包括氧化硅层。
3.根据权利要求1所述的分层结构，还包括所述透明导电层与所述折射率匹配层之间介于0至1之间的折射率差。
4.根据权利要求1所述的分层结构，其中所述金属氧化物层具有1.5至2.0的折射率。
5.根据权利要求1所述的分层结构，其中所述折射率匹配层以单层形式施加。
6.一种形成分层结构的方法，包括：
提供基底；
将透明导电层施加到所述基底；以及
将折射率匹配涂层施加到所述基底；
其中所述折射率匹配涂层邻近所述透明导电层定位，所述折射率匹配涂层包括金属氧化物涂层，所述金属氧化物涂层由以下所述结构形成：
其中每个R1为独立的氢、具有1至6个碳的烷基基团、亚烷基氧或钛连接的基团，其中所述钛连接的基团包括连接到所述钛原子的任何有机或无机基团；
其中每个R2为独立的氢或烷基基团。
7.根据权利要求6所述的方法，其中所述折射率匹配涂层还包括氧化硅涂层。
8.根据权利要求7所述的方法，其中交替地施加所述金属氧化物涂层和所述氧化硅涂层。
9.根据权利要求11所述的方法，其中所述折射率匹配涂层包括金属氧化物涂层，其中所述金属氧化物涂层的施加在所述金属氧化物涂层与所述透明导电层之间形成介于0至1之间的反射率差。
10.根据权利要求18所述的方法，其中所述金属氧化物涂层被施加为具有介于5nm至100nm之间的厚度，并且所述涂层具有介于1.5至2.0之间的折射率。
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