[发明专利]使用压印光刻的纳米结构图案化在审
申请号: | 201780042278.7 | 申请日: | 2017-06-26 |
公开(公告)号: | CN109414726A | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·J·沃特金斯;罗希特·科塔里 | 申请(专利权)人: | 马萨诸塞大学 |
主分类号: | B05D5/02 | 分类号: | B05D5/02;B32B3/10;B32B5/16;B32B5/30;B41M1/24 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 蔡胜有;苏虹 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米结构图案 纳米颗粒墨 压印光刻 纹理 基底 制造 | ||
1.一种制造有纹理的表面的方法,包括:
将墨设置在基底上,其中所述墨包含纳米颗粒和溶胶凝胶前体;
使所述墨与有纹理的模具接触,其中所述模具能够使存在于所述墨中的溶剂透过并且能够操作以吸收所述溶剂;
将纹理从所述有纹理的模具转移到所述墨;以及
使所述基底退火。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述纹理包括一维结构、二维结构或三维结构,或者其组合。
3.根据权利要求1所述的方法,其中所述退火在最高至1000℃的温度下进行。
4.根据权利要求3所述的方法,其中所述退火在100℃至500℃的温度下进行5分钟至2小时的时间。
5.根据权利要求1所述的方法,其中所述墨与所述有纹理的模具的接触在0.1MPa至5MPa的压力下进行。
6.根据权利要求1所述的方法,其中所述模具包括弹性体。
7.根据权利要求6所述的方法,其中所述弹性体包括以下中的至少一者:聚硅氧烷、聚氨酯、聚丁二烯、聚异戊二烯,或其组合。
8.根据权利要求1所述的方法,其中所述纳米颗粒包括氧化铟钛、二氧化钛、氧化铝、二氧化硅或其组合。
9.根据权利要求1所述的方法,其中所述纳米颗粒包括金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氧氮化物、金属碳氧化物、金属硼化物、金属硅化物或其组合。
10.根据权利要求1所述的方法,其中所述方法还包括在退火的基底上设置聚合物的平坦化层以及在所述平坦化层上设置纹理的第二层。
11.根据权利要求10所述的方法,其中所述方法还包括使所述基底再退火。
12.根据权利要求1所述的方法,其中在所述有纹理的表面的制造期间,相对湿度为约20%至约100%。
13.一种制品,其包括通过根据权利要求1所述的方法形成的有纹理的表面。
14.根据权利要求1所述的方法,其中所述退火通过加热,或者通过用微波辐射、可见光、红外线辐射或紫外线辐射照射来进行。
15.根据权利要求1所述的方法,其中所述纹理从所述模具到所述墨的转移被配置成在所述墨中产生没有通过下层连接在一起的特征。
16.一种制品,包括:
基底;以及
设置在所述基底上的一维结构、二维结构、三维结构或其组合;其中所述一维结构、二维结构或三维结构通过包括以下步骤的方法来制造:
将墨设置在所述基底上,其中所述墨包含纳米颗粒和溶胶凝胶前体;
使所述墨与有纹理的模具接触,其中所述模具能够使存在于所述墨中的溶剂透过并且能够操作以吸收所述溶剂;
将纹理从所述有纹理的模具转移到所述墨;以及
使所述基底退火。
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