[发明专利]硬涂层、硬涂布的工具以及它们的生产方法有效

专利信息
申请号: 201780042311.6 申请日: 2017-06-30
公开(公告)号: CN109477215B 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: 福永有三;今井真之 申请(专利权)人: 三菱日立工具株式会社
主分类号: C23C16/34 分类号: C23C16/34;B23B27/14;B23C5/16;C23C16/455
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 周丹;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 涂层 硬涂布 工具 以及 它们 生产 方法
【权利要求书】:

1.一种硬涂层,所述硬涂层包括由基于fcc的氮化钛铝涂层形成的下层和由具有hcp晶系的氮化铝涂层形成的上层;所述上层具有柱状晶体结构,所述柱状晶体具有0.05-0.6μm的平均横剖面直径,并且所述上层中(002)晶面的X-射线衍射峰值Ia(002)与(100)晶面的X-射线衍射峰值Ia(100)的比例满足Ia(002)/Ia(100)≥6的关系。

2.根据权利要求1所述的硬涂层,其中在X-射线衍射角2θ为36°至39°的范围内,所述下层的(111)晶面和所述上层的(101)晶面的合并X-射线衍射峰值It(111)Ia(101)与所述Ia(100)的比例满足It(111)Ia(101)/Ia(100)≥1.5的关系。

3.根据权利要求1所述的硬涂层,其中在X-射线衍射角2θ为36至39°的范围内,所述下层的(111)晶面和所述上层的(101)晶面的合并X-射线衍射峰值It(111)Ia(101)与所述下层的(200)晶面的X-射线衍射峰值It(200)的比例满足It(111)Ia(101)/It(200)≥1.5的关系。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的硬涂层,其中在所述下层和所述上层之间的界面中,30%或更多的晶格条纹是连续的。

5.一种硬涂布的工具,所述硬涂布的工具具有在基板上形成的根据权利要求1-4中任一项所述的硬涂层。

6.一种用于通过化学气相沉积法生产根据权利要求1-4中任一项所述的硬涂层的方法,所述方法包括:

(1)使用混合气体A1和混合气体B1作为第一起始材料气体用于形成所述下层,所述混合气体A1包括TiCl4气体、AlCl3气体、N2气体和H2气体,所述混合气体B1包括N2气体、NH3气体和H2气体;以及

(2)使用混合气体A2和混合气体B2作为第二起始材料气体用于形成所述上层,所述混合气体A2包括AlCl3气体、N2气体和H2气体,所述混合气体B2包括NH3气体、N2气体和H2气体,

其中所述下层在3-6kPa的形成压力下和750-900℃的形成温度下形成;并且所述上层在3-5kPa的形成压力下和750-850℃的形成温度下形成。

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