[发明专利]光学构件的制造方法

说明书

本发明提供一种不损害透明性而提高防污性和耐擦性的光学构件的制造方法。在本发明的光学构件的制造方法中，光学构件具备：基材；以及聚合物层，在其表面具有以可见光的波长以下的间距设有多个凸部的凹凸结构，光学构件的制造方法包括：工序(1)，使光固化性树脂和脱模剂溶解于溶剂，调制树脂溶液；工序(2)，将上述树脂溶液涂敷到上述基材的表面上；工序(3)，进行从上述树脂溶液的涂敷物除去上述溶剂的加热处理，形成树脂层；工序(4)，在将上述树脂层夹在中间的状态下，将上述基材按压于模具，将上述凹凸结构形成于上述树脂层的表面；以及工序(5)，通过光照射使上述树脂层固化，形成上述聚合物层，上述光固化性树脂和上述脱模剂是在相互混合的情况下表现出规定的浊度的组合，上述光学构件的雾度不到1.0％。

技术领域

本发明涉及光学构件的制造方法。更详细地说，涉及具有纳米尺寸的凹凸结构的光学构件的制造方法。

背景技术

对光学构件在各种领域中的应用已进行了研究(例如参照专利文献1～5)。特别是已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学构件具有优异的防反射性。根据这种凹凸结构，折射率从空气层向基材连续变化，因此能使反射光急剧减少。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2007-178724号公报

专利文献2：特开2005-97371号公报

专利文献3：国际公开第2015/060458号

专利文献4：国际公开第2013/187506号

专利文献5：国际公开第2011/125970号

发明内容

发明要解决的问题

作为这种光学构件，例如可举出将在表面具有凹凸结构的聚合物层配置于基材的表面上的构成。然而，在现有的光学构件中，由于在表面具有凹凸结构，因此存在如下问题：难以擦除指纹，即防污性低。

对此，本发明的发明人尝试了使用光固化性树脂和脱模剂形成聚合物层，利用脱模剂的效果来提高防污性(指纹擦除性)。然而发现，由于凹凸结构的表面积大，因此仅通过将光固化性树脂和脱模剂配合，脱模剂的有效成分难以在凹凸结构的表面取向。其结果是，发现不仅无法充分得到防污性，也无法充分得到光滑性。在光滑性不充分的情况下，在擦拭聚合物层的表面时的负荷(摩擦阻力)变大，因此导致耐擦性降低。另外发现，当将光学构件放置在高温/高湿的环境下时，脱模剂的有效成分的取向性会发生变化，因此防污性和耐擦性显著降低。

对此，本发明的发明人尝试了提高脱模剂的有效成分的含有率(浓度)，以使在凹凸结构的表面取向的量变多。然而发现，仅提高脱模剂的有效成分的含有率的话，会导致与光固化性树脂的相溶性降低，因此脱模剂变得不溶解。其结果是，发现光学构件的雾度变高，即透明性降低。

如以上那样，在现有的光学构件中，在不损害透明性而提高防污性和耐擦性的方面存在改善的余地。

上述专利文献1记载了使用包含氟化合物的光固化性树脂组成物形成凹凸结构的方法。然而，仅通过将氟化合物配合，防污性和耐擦性不充分，存在改善的余地。

上述专利文献2记载了使用包含含氟化合物的含氟树脂组成物形成有凹凸结构的光学物品。然而，含氟化合物会溶解于在实施例中使用的多官能固化剂，因此防污性和耐擦性不充分，存在改善的余地。

上述专利文献3记载了使用聚合性组成物(氟树脂)形成的硬涂层膜。然而，仅通过利用氟原子的取向性，防污性和耐擦性不充分，存在改善的余地。