[发明专利]扫描天线及扫描天线的制造方法

权利要求书

1.一种扫描天线，其是排列着多个天线单元的扫描天线，其特征在于具有：

TFT基板，其具有第一电介质基板、支撑于所述第一电介质基板上的多个TFT及与所述TFT电连接的多个贴片电极、以覆盖所述TFT及所述贴片电极的形态配置的第一取向膜；

插槽基板，其具有第二电介质基板、支撑于所述第二电介质基板上的含有多个槽的插槽电极、以覆盖所述插槽电极的形态配置的第二取向膜；

液晶层，其介于所述第一取向膜及所述第二取向膜相互对向的所述TFT基板与所述插槽基板之间；及

反射导电板，其配置为介隔电介质层而与未形成所述插槽电极的所述第二电介质基板的相反面对向，

所述第一取向膜及所述第二取向膜由含有丙烯酸系聚合物的丙烯酸系取向膜构成。

2.根据权利要求1所述的扫描天线，其特征在于：所述丙烯酸系取向膜由表现出如下功能的光反应性丙烯酸系取向膜构成，亦即如果被光照射，则使所述液晶层中的液晶化合物取向于特定方向上的功能。

3.根据权利要求2所述的扫描天线，其特征在于：所述光反应性丙烯酸系取向膜包含光反应性丙烯酸系聚合物，该光反应性丙烯酸系聚合物含有源自于侧链具有光反应性官能基的丙烯酸系单体的结构单元。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的扫描天线，其特征在于：所述液晶层中的液晶化合物于末端具有选自由F基、Cl基、Br基、SCN基、NCS基、CN基、OCN基、NCO基、CF₃基、OCF₃基及SF₅基所构成的群的至少一种官能基。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的扫描天线，其特征在于：所述液晶层中的液晶化合物具有选自由碳-碳三键、-CH＝CH-、-CF＝CF-、-CF＝CH-、-CH＝CF-、-(CO)O-、-O(CO)-、及-O-所构成的群的至少一种键。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的扫描天线，其特征在于：所述贴片电极及/或所述插槽电极由铜构成。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的扫描天线，其特征在于：具有密封材料，其以包围所述液晶层且分别粘接于所述TFT基板及所述插槽基板上的形态介于所述TFT基板与所述插槽基板之间，

所述密封材料具有液晶注入口，其由贯通所述液晶层侧与外侧的孔部构成，在利用真空注入法将构成所述液晶层的液晶化合物注入至所述TFT基板与所述插槽基板之间时利用，

且具有密封所述液晶注入口的密封部。

8.一种扫描天线的制造方法，其是根据权利要求1至7中任一项所述的扫描天线的制造方法，其特征在于使用真空注入法形成所述液晶层。