[发明专利]使用经遗传修饰的真菌细胞来进行经改善的从半乳糖醛酸的内消旋半乳糖二酸产生有效
申请号: | 201780044567.0 | 申请日: | 2017-05-19 |
公开(公告)号: | CN109477078B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | J·奎瓦宁;P·理查德;Y-M·J·王 | 申请(专利权)人: | 芬兰国家技术研究中心股份公司 |
主分类号: | C12N9/04 | 分类号: | C12N9/04;C12P7/44;C12P7/58;C12Q1/26 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 傅宇昌 |
地址: | 芬兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 使用 遗传 修饰 真菌 细胞 进行 改善 半乳糖 醛酸 内消旋 产生 | ||
1.用于产生内消旋半乳糖二酸的方法,所述方法包括:
使经遗传修饰从而表达D-半乳糖醛酸脱氢酶、经遗传修饰从而具有降低的D-半乳糖醛酸还原酶活性并且通过缺失编码JGI蛋白ID号39114、1090836和/或1121140的基因来进行修饰从而减少内消旋半乳糖二酸分解代谢的黑曲霉(Aspergillus niger)真菌细胞与包含半乳糖醛酸的生物材料相接触,和
回收所得的内消旋半乳糖二酸。
2.已经经遗传修饰从而表达糖醛酸脱氢酶、经遗传修饰从而具有降低的D-半乳糖醛酸还原酶活性并且能够将D-半乳糖醛酸转化成内消旋半乳糖二酸的黑曲霉真菌细胞,其中所述真菌细胞已通过缺失编码JGI蛋白ID号39114、1090836和/或1121140的基因来进行进一步修饰从而减少内消旋半乳糖二酸分解代谢。
3.用于处理包含半乳糖醛酸的生物材料的方法,所述方法包括使经遗传修饰从而表达糖醛酸脱氢酶、经遗传修饰从而具有降低的D-半乳糖醛酸还原酶活性并且通过缺失编码JGI蛋白ID号39114、1090836和/或1121140的基因来进行修饰从而减少内消旋半乳糖二酸分解代谢的黑曲霉真菌细胞与所述生物材料在合适的培养条件下相接触。
4.权利要求1或3的方法,其中所述真菌细胞天然地能够降解果胶。
5.权利要求1或3的方法,其中所述糖醛酸脱氢酶是异源糖醛酸脱氢酶。
6.权利要求5的方法,其中所述异源糖醛酸脱氢酶源自假单胞菌属(Pseudomonas)或土壤杆菌属(Agrobacterium)。
7.权利要求1或3的方法,其中编码D-半乳糖醛酸还原酶的多核苷酸已被缺失。
8.权利要求1或3的方法,其中已经通过缺失编码2-酮-3-脱氧-L-半乳糖酸醛缩酶的多核苷酸来进一步遗传修饰所述真菌细胞。
9.权利要求2的真菌细胞,其中所述真菌细胞天然地能够降解果胶。
10.权利要求2的真菌细胞,其中所述糖醛酸脱氢酶是异源糖醛酸脱氢酶。
11.权利要求10的真菌细胞,其中所述异源糖醛酸脱氢酶源自假单胞菌属(Pseudomonas)或土壤杆菌属(Agrobacterium)。
12.权利要求2的真菌细胞,其中编码D-半乳糖醛酸还原酶的多核苷酸已被缺失。
13.权利要求2的真菌细胞,其中已经通过缺失编码2-酮-3-脱氧-L-半乳糖酸醛缩酶的多核苷酸来进一步遗传修饰所述真菌细胞。
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