[发明专利]X射线相位差摄像装置在审
| 申请号： | 201780044614.1 | 申请日： | 2017-07-10 |
| 公开（公告）号： | CN109475335A | 公开（公告）日： | 2019-03-15 |
| 发明（设计）人： | 堀场日明;田边晃一;吉牟田利典;木村健士;岸原弘之;和田幸久;和泉拓朗;白井太郎;土岐贵弘;佐野哲;志村考功;渡部平司;细井卓治 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光栅 摄像装置 位置偏移 相位差 检测 检测X射线 调整机构 莫尔条纹 图案 | ||
1.一种X射线相位差摄像装置，具备：
X射线源；
第一光栅，其用于从所述X射线源照射X射线来形成自身像；
第二光栅，其被照射通过所述第一光栅后的所述X射线；
检测部，其对通过所述第二光栅后的所述X射线进行检测；
调整机构，其用于调整所述第一光栅的位置或所述第二光栅的位置；以及
控制部，其进行以下控制：基于由所述检测部检测出的莫尔条纹，利用所述调整机构来调整所述第一光栅的位置偏移或所述第二光栅的位置偏移。
2.根据权利要求1所述的X射线相位差摄像装置，其特征在于，
所述控制部构成为进行以下控制：利用所述调整机构来调整所述第一光栅的位置偏移或所述第二光栅的位置偏移，以使所述检测部检测不出所述莫尔条纹，或者使所述莫尔条纹的周期成为规定的周期。
3.根据权利要求1所述的X射线相位差摄像装置，其特征在于，
所述控制部构成为进行以下控制：基于所述莫尔条纹，利用所述调整机构来调整所述X射线的照射轴方向、绕所述X射线的照射轴方向的旋转方向以及绕第一正交方向和绕第二正交方向的旋转方向中的至少一个方向上的第一光栅的位置偏移或第二光栅的位置偏移，所述第一正交方向和所述第二正交方向在与所述X射线的照射轴方向正交的面内彼此正交。
4.根据权利要求3所述的X射线相位差摄像装置，其特征在于，
所述控制部构成为：基于所述莫尔条纹来获取光栅方向上的所述莫尔条纹的周期，并且基于获取到的光栅方向上的所述莫尔条纹的周期来获取所述X射线的照射轴方向上的所述第一光栅的位置偏移量或所述第二光栅的位置偏移量。
5.根据权利要求3所述的X射线相位差摄像装置，其特征在于，
所述控制部构成为：基于所述莫尔条纹来获取与光栅方向不同的方向上的所述莫尔条纹的周期，并且基于获取到的与光栅方向不同的方向上的所述莫尔条纹的周期来获取绕所述X射线的照射轴方向的旋转方向上的所述第一光栅的位置偏移量或所述第二光栅的位置偏移量。
6.根据权利要求3所述的X射线相位差摄像装置，其特征在于，
所述控制部构成为进行以下控制：利用所述调整机构来调整绕所述第一正交方向的旋转方向和绕所述第二正交方向的旋转方向上的所述第一光栅的位置偏移或所述第二光栅的位置偏移，以使所述莫尔条纹的变形消失。
7.一种X射线相位差摄像装置，具备：
X射线源；
光栅，其用于从所述X射线源照射X射线来形成自身像；
检测部，其对通过所述光栅后的所述X射线进行检测；
调整机构，其用于调整所述光栅的位置或所述检测部的位置；以及
控制部，其进行以下控制：基于由所述检测部检测出的莫尔条纹，利用所述调整机构来调整所述光栅的位置偏移或所述检测部的位置偏移。
8.一种X射线相位差摄像装置，具备：
X射线源；
第一光栅，其用于从所述X射线源照射X射线来形成自身像；
检测部，其对至少通过所述第一光栅后的所述X射线进行检测；
调整机构，其用于调整所述第一光栅与被照射通过所述第一光栅后的所述X射线的第二光栅的相对位置或者所述第一光栅与所述检测部的相对位置；以及
控制部，其进行以下控制：基于由所述检测部检测出的莫尔条纹，利用所述调整机构来调整所述第一光栅与所述第二光栅的相对位置或者所述第一光栅与所述检测部的相对位置。
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