[发明专利]化合物、树脂和组合物、以及抗蚀图案形成方法和电路图案形成方法

权利要求书

1.一种化合物，其由下述式(0)所示，

式(0)中，R^Y为氢原子、碳原子数1～30的烷基或碳原子数6～30的芳基，

R^Z为碳原子数1～60的N价的基团或单键，

R^T分别独立地为任选具有取代基的碳原子数1～30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～30的芳基、任选具有取代基的碳原子数2～30的烯基、任选具有取代基的碳原子数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被所述式(0-1)所示的基团取代而成的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选含有醚键、酮键或酯键，此处，R^T的至少一个包含下述式(0-1)所示的基团，

X表示氧原子、硫原子或为无桥接，

m分别独立地为0～9的整数，此处，m的至少一个为1～9的整数，

N为1～4的整数，N为2以上的整数时，N个[]内的结构式任选相同或不同，

r分别独立地为0～2的整数；

式(0-1)中，R^X为氢原子或甲基。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述式(0)所示的化合物为下述式(1)所示的化合物，

式(1)中，R⁰与所述R^Y同义，

R¹是碳原子数1～60的n价的基团或单键，

R²～R⁵分别独立地为任选具有取代基的碳原子数1～30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～30的芳基、任选具有取代基的碳原子数2～30的烯基、任选具有取代基的碳原子数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被所述式(0-1)所示的基团取代而成的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选含有醚键、酮键或酯键，此处，R²～R⁵的至少一个包含所述式(0-1)所示的基团，

m²和m³分别独立地为0～8的整数，

m⁴和m⁵分别独立地为0～9的整数，

其中，m²、m³、m⁴和m⁵不同时为0，

n与所述N同义，此处，n为2以上的整数时，n个[]内的结构式任选相同或不同，

p²～p⁵与所述r同义。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中，所述式(0)所示的化合物为下述式(2)所示的化合物，

式(2)中，R^0A与所述R^Y同义，

R^1A是碳原子数1～60的n^A价的基团或单键，

R^2A分别独立地为任选具有取代基的碳原子数1～30的烷基、任选具有取代基的碳原子数6～30的芳基、任选具有取代基的碳原子数2～30的烯基、任选具有取代基的碳原子数1～30的烷氧基、卤原子、硝基、氨基、羧酸基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被所述式(0-1)所示的基团取代而成的基团，所述烷基、所述芳基、所述烯基、所述烷氧基任选含有醚键、酮键或酯键，此处，R^2A的至少一个包含所述式(0-1)所示的基团，

n^A与所述N同义，此处，n^A为2以上的整数时，n^A个[]内的结构式任选相同或不同，

X^A表示氧原子、硫原子或为无桥接，

m^2A分别独立地为0～7的整数，其中，至少一个m^2A为1～7的整数，

q^A分别独立地为0或1。