[发明专利]用于x射线显微镜检查的方法和设备

权利要求书

1.一种用x射线检查物体的方法，包括：

在预定区域中创建从共同的x射线源传播的x射线微束的周期性阵列，其中所述预定区域内的每个x射线微束具有通过所述共同的x射线源的轴线，并且另外具有大于10％的从所述微束轴线垂直地测得的、沿着所述微束轴线的x射线强度和等于所述x射线微束的周期性阵列的周期的1/2的距离处的x射线强度之间的对比度；

将x射线像素阵列检测器系统定位为使得检测器的x射线传感器在所述预定区域内并且检测器的像素是对齐的以使得每个像素检测与不多于一个的x射线微束相对应的x射线；

将物体放置在所述x射线阵列检测器的前面，并且将所述物体的将被检测的一部分定位在所述预定区域内；

用所述x射线微束的周期性阵列照射所述物体的所述部分；并且

记录所述x射线阵列检测器生成的信号。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述x射线微束的周期性阵列是通过形成Talbot干涉图样的Talbot干涉现象创建的；

并且所述x射线微束对应于所述Talbot干涉图样的相长干涉部分的阵列。

3.根据权利要求2所述的方法，另外还包括：

将具有周期性透射部分的吸收掩蔽组件定位在所述预定区域内，所述周期性透射部分仅透射所述x射线微束的预定子集；其中

所述透射部分在两个侧向上的周期等于所述Talbot干涉图样的周期乘以正整数N；

并且还包括对齐所述吸收掩蔽组件以使得所述透射部分以每第N个微束为中心。

4.根据权利要求1所述的方法，另外还包括：

将具有透射部分的吸收掩蔽组件放置在所述预定区域内，所述透射部分被定位为仅透射所述x射线微束的预定子集。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，

所述透射部分的侧向尺寸小于所述预定区域内的x射线微束的周期性阵列的周期的3/4。

6.根据权利要求1所述的方法，另外还包括：

将所述x射线像素阵列检测器系统定位为使得两个或更多个像素检测与同一个x射线微束相对应的x射线。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述信号对应于所述x射线微束通过所述物体的透射。

8.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述信号对应于所述x射线微束与所述物体的相互作用现象，所述相互作用现象选自由以下现象组成的组：吸收、折射、x射线荧光和小角度散射。

9.根据权利要求1所述的方法，另外还包括：

将具有透射部分的吸收掩蔽组件放置在所述预定区域内，所述透射部分被定位为仅透射所述x射线微束的预定子集。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述x射线像素阵列检测系统包括具有周期性x射线作用区域的第一x射线检测器，所述周期性x射线作用区域被定位为检测x射线并生成与所述x射线相对应的信号，并且被不生成信号的x射线不作用区域隔开；

其中所述周期性x射线作用区域的周期被选择为仅检测所述x射线微束的预定子集。

11.根据权利要求10所述的方法，其中，

所述x射线不作用区域透射x射线；并且

所述x射线像素阵列检测系统另外还包括第二x射线检测器，所述第二x射线检测器被定位为检测透射通过所述第一x射线检测器的x射线。

12.根据权利要求1所述的方法，其中，

所述预定区域中的x射线微束的周期性阵列的周期小于50微米。

13.根据权利要求1所述的方法，其中

所述预定区域中的沿着所述轴线的每个x射线微束的长度大于1毫米。