[发明专利]用于处理化妆品用粉末的试剂、化妆品用粉末、以及使用该粉末配制的化妆品

说明书

本发明公开了一种用于处理化妆品用粉末的试剂，所述试剂具有以下述通式(1)表示的反应性有机硅氧烷作为主要成分。(式中，R¹各自独立地为碳原子数1～30的烷基。R²各自独立地为碳原子数为1～20的烷基。R³为2价亚烷基。n为1～200的整数，并且p为1～3的整数。)本发明提供一种能够赋予优异的亲油性的化妆品用粉末处理剂、具有带来优异的使用感的化妆效果的化妆品原料、以及化妆品。

技术领域

本发明涉及一种新的化妆品用粉末的处理剂、使用该处理剂进行过表面处理的化妆品用粉末以及含有该粉末的化妆品。

背景技术

通过使用粉末处理剂，实施有机粒子和无机粒子的表面处理，对这些粒子赋予了新的特性。例如，在化妆品中，提高对于化妆品油成分的相溶性以及提高对于皮肤的附着性和紫外线散射效果等。

由于使用甲基氢聚硅氧烷作为粉末处理剂，实施化妆品原料的表面处理时，氢会残留在化妆品和体质颜料内，考虑到因氢的产生而在制造工序中出现的危险性，可列举硅成分的凝集等作为课题。作为其解决方法，已经开发出了反应性烷基聚硅氧烷等。(日本专利特开平07-196946号公报)

但是，该粉末处理效果和使用感尚无法获得充分效果。因此，正在通过使用提高了SiH基的反应性的有机氢聚硅氧烷，摸索其解决方法。(日本专利特开2002-363445号公报、日本专利特开2009-013267号公报)

虽然有此种技术改良，但使用SiH基时课题虽有减少但仍旧存在，因此还开发出了特别用于亲油化表面处理粉末的粉末等。(日本专利特开2010-241732号公报)但是，在与其他化妆品原料的相溶性和使用感方面仍存有课题。

现有技术文献

专利文献

【专利文献1】日本专利特开平07-196946号公报

【专利文献2】日本专利特开2002-363445号公报

【专利文献3】日本专利特开2009-013267号公报

【专利文献4】日本专利特开2010-241732号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

作为本发明之一，提供一种能够赋予优异的亲油性的化妆品用粉末的处理剂。作为本发明之一，提供一种通过含有该处理剂以及利用其实施处理，可具有化妆效果且具有优异的使用感的化妆品用粉末、化妆品原料或者使用它们的化妆品。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明的一种化妆品用粉末的处理剂，其特征在于，含有以下述通式(1)表示的反应性有机硅氧烷作为主要成分。

化学式1

(式中，R¹各自独立地表示碳原子数为1～30的烷基。R²各自独立地表示碳原子数为1～20的烷基。R³为2价亚烷基。n为1～200的整数，p为1～3的整数。)

本发明的一种化妆品用粉末，其特征在于，由利用上述处理剂实施过表面处理的化妆品用粉末构成。本发明的一种化妆品原料，其特征在于，由化妆品用粉末构成。此外，本发明的一种化妆品，其特征在于，含有所述化妆品用粉末。

发明效果