[发明专利]用于涂布颗粒的装置和方法在审
申请号: | 201780046005.X | 申请日: | 2017-07-17 |
公开(公告)号: | CN109477218A | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | T·利布施;F·克莱内耶格尔;D·西尔贝纳格尔;S·斯特雷格 | 申请(专利权)人: | 巴斯夫欧洲公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;H01M4/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 王丹丹;刘金辉 |
地址: | 德国莱茵河*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应器 气闸 反应性气体 涂布颗粒 传送 原子层沉积 隔开 | ||
1.一种用于通过原子层沉积涂布颗粒的装置,其包括:
(a)能使颗粒与第一反应性气体接触的第一反应器,
(b)能使颗粒与第二反应性气体接触的第二反应器,和
(c)位于第一和第二反应器之间的至少一个缓冲装置,
其中第一和第二反应器被第一和第二气闸隔开并且颗粒可从第一反应器经第一气闸传送至第二反应器或传送至缓冲装置(c),同时颗粒可从第二反应器经第二气闸传送至第一反应器或传送至缓冲装置(c)。
2.根据权利要求1的装置,其中第一和第二反应器各自配有入口阀,入口阀配有测量气体流速的计量器和控制反应性气体经过入口阀的流速的装置。
3.一种涂布颗粒的方法,其包括如下步骤:
(a)使颗粒在第一反应器中暴露于与颗粒表面反应的第一气体,和
(b)在已与第一气体反应后使颗粒在第二反应器中暴露于与颗粒表面反应的第二气体,
其中颗粒从第一反应器经第一气闸传送至第二反应器或传送至缓冲装置(c)并从第二反应器经第二气闸传送至第一反应器或传送至缓冲装置(c),
其中包括至少一个缓冲装置(c)。
4.根据权利要求3的方法,其中经过第一反应器的颗粒料流速率高于或低于经过第二反应器的颗粒料流速率。
5.根据权利要求3或4的方法,其中第一和第二反应器中的压力为900至1100毫巴。
6.根据权利要求3-5中任一项的方法,其中第一反应性气体为含金属的化合物。
7.根据权利要求3-6中任一项的方法,其中第二反应性气体为水。
8.根据权利要求3-7中任一项的方法,其中将包括步骤(a)和(b)的顺序进行至少两次。
9.根据权利要求3-8中任一项的方法,其中通过气动传送将所述颗粒从第一反应器传送至第二反应器。
10.根据权利要求3-9中任一项的方法,其中所述颗粒以至少10千克/小时的整体颗粒料流速率传送。
11.根据权利要求3-10中任一项的方法,其中所述颗粒具有通过根据ISO 22412(2008)的动态光散射测得的1至100μm的重均粒径。
12.根据权利要求3-11中任一项的方法,其中第一和第二反应器中的温度和压力彼此独立地设定。
13.根据权利要求3-12中任一项的方法,其中所述颗粒选自锂离子电池的阴极活性材料。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的