[发明专利]显示装置的制造方法和显示装置有效

专利信息
申请号: 201780046334.4 申请日: 2017-07-21
公开(公告)号: CN109565916B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 塚本优人;三井精一;川户伸一;井上智;小林勇毅;越智贵志 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: H01L51/50 分类号: H01L51/50;H05B33/10;H05B33/12;H05B33/26;H05B33/28;C23C14/04;G09F9/00;G09F9/30;G09F9/302;H01L27/32
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳;池兵
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种显示装置的制造方法,该显示装置包括具有显示区域的基板,该显示区域设置有多个由第一子像素、第二子像素、第三子像素和第四子像素构成的像素,所述第一子像素和所述第二子像素在第一方向上交替配置,并且所述第三子像素和所述第四子像素在所述第一方向上交替配置,由所述第一子像素和所述第二子像素构成的排和由所述第三子像素和所述第四子像素构成的排在与所述第一方向正交的第二方向上交替配置,在所述第一子像素中,第一荧光发光材料进行发光,从该第一荧光发光材料发出的光出射至外部,在所述第二子像素和所述第三子像素中,仅第二荧光发光材料进行发光,从该第二荧光发光材料发出的光出射至外部,在所述第四子像素中,第三发光材料进行发光,从该第三发光材料发出的光出射至外部,所述第一荧光发光材料发出具有第一峰值波长的光,所述第二荧光发光材料发出具有第二峰值波长的光,所述第三发光材料发出具有第三峰值波长的光,所述第二峰值波长大于所述第一峰值波长,所述第三峰值波长大于所述第二峰值波长,所述第二荧光发光材料的最低激发单重态的能级低于所述第一荧光发光材料的最低激发单重态的能级且高于所述第三发光材料的最低激发单重态的能级,

所述显示装置的制造方法的特征在于:

包括功能层形成工序,通过经由分别形成有与各功能层对应的具有规定的开口图案的多个掩模开口的蒸镀掩模,在所述基板上分别蒸镀与各功能层对应的蒸镀颗粒,在所述基板上形成由所述蒸镀颗粒构成的多个功能层,

所述功能层形成工序包括:

第一发光层形成工序,仅在所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素中的所述第一子像素和所述第二子像素中共用地形成含有所述第一荧光发光材料的第一发光层;

第二发光层形成工序,仅在所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素中的所述第二子像素和所述第三子像素中共用地形成含有所述第二荧光发光材料的第二发光层;

第三发光层形成工序,仅在所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素中的所述第二子像素和所述第四子像素中共用地形成含有所述第三发光材料的第三发光层;和

分隔层形成工序,以在所述第二子像素中,所述第一发光层和所述第二发光层中的位于所述第三发光层侧的发光层与所述第三发光层隔着阻碍福斯特型的能量转移的分隔层层叠的方式,仅在所述第一子像素、所述第二子像素、所述第三子像素和所述第四子像素中的所述第二子像素中或者仅在所述第二子像素和所述第四子像素中形成所述分隔层,

在所述功能层形成工序中,

以在所述第二子像素中所述第一发光层和所述第二发光层的彼此相对的相对面间的距离成为福斯特半径以下的方式,形成所述第一发光层和所述第二发光层,并且,

在所述第一发光层形成工序、所述第二发光层形成工序和所述第三发光层形成工序中的至少2个发光层形成工序中,使用所述掩模开口包含跨多个像素设置的狭缝型的掩模开口的狭缝掩模作为所述蒸镀掩模,将所述蒸镀颗粒线性蒸镀在所述基板上。

2.如权利要求1所述的显示装置的制造方法,其特征在于:

所述显示装置具有PenTile型的像素排列,在该PenTile型的像素排列中,在所述第二方向上,所述第二子像素和所述第四子像素相邻,并且所述第三子像素和所述第一子像素相邻,在与所述第一方向和所述第二方向分别交叉的第三方向上,所述第一子像素和所述第四子像素相邻,并且所述第二子像素和所述第三子像素相邻,

在所述第一发光层形成工序中,在将所述第一方向上相邻的所述第一子像素和所述第二子像素连结的方向上线性蒸镀所述第一荧光发光材料,

在所述第二发光层形成工序中,在将所述第三方向上相邻的所述第二子像素和所述第三子像素连结的方向上线性蒸镀所述第二荧光发光材料,

在所述第三发光层形成工序中,在将所述第二方向上相邻的所述第二子像素和所述第四子像素连结的方向上线性蒸镀所述第三发光材料。

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