[发明专利]用于真空沉积的设备及方法

权利要求书

1.一种真空沉积设备(1)，所述真空沉积设备(1)用于在行进的基材(S)上连续沉积由包含主元素和至少一种附加元素的金属合金形成的涂层，所述设备包括真空沉积腔室(2)和用于使所述基材行进穿过所述腔室的器件，其中，所述设备还包括：

-蒸气喷射涂覆器(3)，

-蒸发坩埚(4)，所述蒸发坩埚(4)适于向所述蒸气喷射涂覆器供给包含所述主元素和所述至少一种附加元素的蒸气，

-再充料炉(9)，所述再充料炉(9)适于向所述蒸发坩埚供给熔融态的所述主元素并且能够保持所述蒸发坩埚中恒定的液位，

-供给单元(11)，所述供给单元(11)适于供给固态的所述至少一种附加元素，并且适于向所述蒸发坩埚无差别地供给熔融态、固态或部分固态的所述至少一种附加元素。

2.根据权利要求1所述的真空沉积设备，其中，所述供给单元(11)包括供给管(12)。

3.根据权利要求2所述的真空沉积设备，其中，所述供给管(12)的下端部低于所述蒸发坩埚(4)中的液位。

4.根据权利要求2或3中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述蒸发坩埚(4)包括罩(6)，所述供给管(12)连接在所述罩(6)上。

5.根据权利要求2或4中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述供给管(12)包括锭保持器(15)，所述锭保持器(15)在一方面适于在所述至少一种附加元素被加热时保持所述至少一种附加元素，在另一方面适于将所述至少一种附加元素释放在所述蒸发坩埚(4)中。

6.根据权利要求5所述的真空沉积设备，其中，所述锭保持器(15)是具有U形横截面的阀。

7.根据权利要求2至6中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述供给管(12)包括惰性气体入口(13)，所述惰性气体入口(13)适于至少在所述供给管的下部部分中提供高于所述蒸发坩埚(4)中压强的压强。

8.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述供给单元(11)包括预热炉。

9.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述供给单元(11)包括加热装置(14)。

10.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述蒸气喷射涂覆器(3)是声波蒸气喷射涂覆器。

11.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述蒸气喷射涂覆器(3)的蒸气的供给通过蒸发管(7)进行，所述蒸发管(7)将所述蒸发坩埚(4)连接在所述蒸气喷射涂覆器(3)上。

12.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述再充料炉(9)放置在所述蒸发坩埚(4)下方并且适于保持在大气压下。

13.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述蒸发坩埚(4)的主元素的供给通过管道(10)进行，所述管道(10)将所述再充料炉(9)连接在所述蒸发坩埚(4)上。

14.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述蒸发坩埚(4)包括感应加热器(8)。

15.根据前述权利要求中的任一项所述的真空沉积设备，其中，所述再充料炉(9)连接至金属锭供给器件。