[发明专利]环境稳定的厚膜的化学放大抗蚀剂

权利要求书

1.光致抗蚀剂组合物，包含：

组分(1)，包含在不存在酸催化剂的情况下在(i)酚醛清漆聚合物，(ii)包含取代或未取代的羟基苯乙烯和丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯或丙烯酸酯与甲基丙烯酸酯的混合物的聚合物，所述丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯被需要高活化能以解封闭的酸不稳定基团保护，和(iii)选自乙烯基醚和未取代或取代的不饱和杂脂环基的化合物之间形成的反应产物；

组分(2)，包含至少一种含有选自以下通式的环结构的杂环硫醇化合物：

或其互变异构体，其中环结构是具有4-8个原子的单环结构，或具有5-20个原子的多环结构，并且其中单环结构或多环结构包含芳族，非芳族或杂芳族环，并且其中X通过单键与环偶联并且选自由CR_aR_b，O，S，Se，Te和NR_c组成的组，或者X通过双键偶联到环中并且选自由CR_a和N组成的组，并且Y选自由CR_a和N组成的组，并且其中R_a，R_b和R_c独立地选自H，具有1-8个碳原子的取代的烷基，具有1-8个碳原子的未取代的烷基，具有1-8个碳原子的取代的烯基，具有1-8个碳原子的未取代的烯基，具有1-8个碳原子的取代的炔基，具有1-8个碳原子的未取代的炔基，具有1-20个碳原子的取代的芳族基团，具有1-20个碳原子的取代的杂芳族基团，具有1-20个碳原子的未取代的芳族基团和具有1-20个碳原子的未取代的杂芳族基团；

组分(3)，包含至少一种包含下式的聚合物：

其中R₁是未取代或取代的烷基或未取代或取代的环烷基，R₂是氢或C₁至C₄烷基，R₃是C₁至C₄烷基或C₂至C₄亚烷基羟基部分，R₄是氢或C₁至C₄烷基，R₅是氢或C₁至C₄烷基，并且x，y，z和w是每种类型重复单元的摩尔％，其中x等于30至40摩尔％，y等于60至70摩尔％，z等于0至10摩尔％，其中x，y，z和w的总和等于100摩尔％并且z和w的总和不超过10摩尔％；

组分(4)，包含至少一种光酸产生剂添加剂，其在用波长在365.4nm和578.2nm之间的辐射照射下，释放出具有pKa等于或小于-1的强酸；

组分(5)，包含至少一种碱添加剂；

组分(6)，包含选自酚醛清漆聚合物或聚乙烯基烷基醚聚合物的任选的粘合促进剂；

组分(7)，包含溶剂。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中组分(1)具有在0.26NTMAH中小于30埃/秒的溶解速率。

3.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中组分(1)通过与具有下式的乙烯基醚反应形成：

其中R₆是未取代或取代的烷基或未取代或取代的环烷基。

4.权利要求3的光致抗蚀剂组合物，其中乙烯基醚是乙基乙烯基醚。

5.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中组分(1)反应产物是通过与未取代或取代的不饱和杂脂环反应形成。

6.权利要求5的光致抗蚀剂组合物，其中未取代的不饱和杂脂环是3,4-二氢-2H-吡喃。

7.权利要求1或2的光致抗蚀剂组合物，其中组分(1)是通过与包含下式的聚合物反应形成：

其中R₇是氢或C₁至C₄烷基，R₈是需要高活化能以解封闭的酸不稳定基团，并且x'和z'是每种类型重复单元的摩尔％，其中x'等于55至65摩尔％，z等于35至45摩尔％，其中x'和z'的总和等于100摩尔％。