[发明专利]光学薄膜、偏振片及图像显示装置

权利要求书

1.一种光学薄膜，其具有基材和相邻设置于所述基材上的相位差层，其中，

所述相位差层为将含有具有聚合性基团的液晶性化合物和高分子化合物的液晶组合物中所含的所述液晶性化合物的垂直取向进行固定而成的层，

使用三维SP值算出的所述高分子化合物与所述基材的δa值之差为3以下，

所述高分子化合物的含量相对于所述液晶性化合物100质量份为小于10质量份，

所述高分子化合物为具有由下述式(I)表示的重复单元的聚合物，

其中，所述式(I)中，R¹表示氢原子或甲基，X表示-O-或-NH-，R²表示氢原子或有机基团。

2.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，与所述相位差层中的与所述基材相反的一侧的表面相比，所述高分子化合物更多地存在于所述相位差层中的所述基材侧的表面。

3.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团。

4.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物不具有氟原子。

5.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团，

所述液晶组合物含有鎓盐化合物。

6.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，所述高分子化合物具有亲水性基团，

所述液晶组合物含有硼酸化合物。

7.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，

使用三维SP值算出的所述基材的δa值为10以上。

8.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，

使用三维SP值算出的所述高分子化合物的δa值为15～19。

9.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，

所述高分子化合物具有由下述式(M)表示的介晶基团，

-L-X-(A-Y)_n-Z (M)

其中，L表示碳原子数为1～8的连接基团；X及Y分别独立地表示单键、-O-、-C(O)O-、-OC(O)-、-OC(O)O-、-C(O)OCH₂CH₂-或-CH₂CH₂C(O)O-；A表示可以具有取代基的1,4-亚苯基、2,6-亚萘基或1,4-反式亚环己基；Z表示氢原子、碳原子数为1～8的烷基、碳原子数为1～8的链烯基、卤素原子、氰基或-L¹-P，L¹表示碳原子数为1～8的连接基团，P表示聚合性基团；n表示2～5的整数；n为2以上的整数的情况下，多个A分别可以相同，也可以不同，多个Y分别可以相同，也可以不同。

10.根据权利要求1所述的光学薄膜，其中，

在所述式(I)中，所述R²表示的有机基团包含亲水性基团，所述亲水性基团是选自由羟基、羧基、氨基、磺基、硫酸盐基、膦酰氧基及其盐构成的组中的基团。

11.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，

使用三维SP值算出的所述基材的δa值为10以上，

所述高分子化合物为具有使用三维SP值算出的δa值为13以上且小于18的重复单元的聚合物。

12.根据权利要求1或2所述的光学薄膜，其中，

使用三维SP值算出的所述基材的δa值为5以上且小于10，

所述高分子化合物为具有使用三维SP值算出的δa值为5以上且小于11的重复单元的聚合物。

13.一种偏振片，其具有权利要求1至12中任一项所述的光学薄膜。