[发明专利]钨阻挡层抛光料浆组合物有效
申请号: | 201780048960.7 | 申请日: | 2017-06-16 |
公开(公告)号: | CN109563375B | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 朴韩泰;孔铉九;李相美 | 申请(专利权)人: | 凯斯科技股份有限公司 |
主分类号: | C11D7/34 | 分类号: | C11D7/34;C09G1/02 |
代理公司: | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人: | 张俊国 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阻挡 抛光 组合 | ||
1.一种钨阻挡层抛光料浆组合物,包括:
抛光粒子;
含有硫磺的氨基酸;和
防腐剂,
其中,所述含有硫磺的氨基酸,包括从半胱氨酸、蛋氨酸、胱氨酸、硫代半胱氨酸、牛磺酸、牛磺胆酸、N-酰基甲基牛磺酸、黎豆氨酸、胱硫醚、S-烯丙半胱氨酸、羊毛硫氨酸、乙硫氨酸、S-腺苷甲硫胺酸、谷胱甘肽、N-乙酰半胱氨酸形成的群组中选择的至少一个,
其中防腐剂包括从甘氨酸、精氨酸、丙氨酸、谷氨酸、天冬氨酸、天冬酰胺、组氨酸形成的群组中选择的至少一个,
其中所述料浆组合物用于抛光钨阻挡层和改善边缘腐蚀(EOE)的应用,
所述抛光粒子的大小是40nm至100nm的单一尺寸粒子或是2种以上的混合粒子,
所述含有硫磺的氨基酸,在所述钨阻挡层抛光料浆组合物中为0.001wt%-1wt%。
2.根据权利要求1所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述抛光粒子,包括从有机物或无机物涂层的金属氧化物,和胶状的所述金属氧化物形成的群组中选择的至少任何一个,且
所述金属氧化物,包括从二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化铝、氧化钛、钛酸钡、氧化锗、氧化锰及氧化镁形成的群组中选择的至少任何一个。
3.根据权利要求1所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述抛光粒子,在所述钨阻挡层抛光料浆组合物中为1wt%-10wt%。
4.根据权利要求1所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,利用所述钨阻挡层抛光料浆组合物将钨阻挡层抛光后,在10μm/s-30μm/s的速度范围,10Hz-30Hz的速率范围以及1mg-5mg的动力范围条件下测定的钨金属膜和绝缘膜的线宽为10μm,且图案密度为30%的钨阻挡层的边缘过度侵蚀EOE值为以下。
5.根据权利要求1所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,进一步包括:从pH缓冲剂、及氧化剂形成的群组中选择的至少任何一个。
6.根据权利要求5所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述防腐剂,在所述钨阻挡层抛光料浆组合物中为0.001wt%-1wt%。
7.根据权利要求5所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述pH缓冲剂包括从磷酸铵,磷酸氢铵,磷酸二氢铵,氢氧化铵,乙酸铵,硼酸铵,草酸铵,柠檬酸二铵,柠檬酸三铵,氨基甲酸铵,二盐基柠檬酸铵,和三盐基柠檬酸铵形成的群组中选择的至少任何一个。
8.根据权利要求5所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述pH缓冲剂,在所述钨阻挡层抛光料浆组合物中为0.005wt%-0.2wt%。
9.根据权利要求5所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述氧化剂,包括从过氧化氢,脲过氧化氢,尿素,过碳酸盐,高碘酸,高碘酸盐,高氯酸,高氯酸盐,过溴酸,过溴酸盐,过硼酸,过硼酸盐,高锰酸,高锰酸盐,过硫酸盐,溴酸盐,氯酸盐,亚氯酸盐,铬酸盐,碘酸盐,碘酸,过氧化硫酸铵,过氧化苯甲酰,过氧化钙,过氧化钡,过氧化钠,和过氧化氢元素形成的群组中选择的至少任何一个。
10.根据权利要求5所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述氧化剂,在所述钨阻挡层抛光料浆组合物中为0.01wt%-5wt%。
11.根据权利要求1所述的钨阻挡层抛光料浆组合物,其中,所述钨阻挡层抛光料浆组合物的pH范围为1-5。
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