[发明专利]沉积装置和用于沉积的方法

说明书

提供了一种沉积装置(1)，用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)。该沉积装置包括沉积源(20)和布置在沉积源(20)与沉积表面之间的沉积掩模(30)。沉积掩模(30)具有面向沉积源的第一掩模表面(38)和面向衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)。沉积掩模(30)设置有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中设置了衬底载体(10)，从而以使衬底的衬底表面(ST1)与第二掩模表面(39)相距一距离(D)的方式承载衬底。

技术领域

本申请涉及一种沉积装置。

本申请还涉及一种用于沉积的方法。

背景技术

US2011/0065282涉及一种用于在连续的辊对辊气相沉积工艺中将图案化涂层施加到OLED衬底上的装置。该装置包括气相沉积源、处理鼓、驱动辊和阴影掩模，其中阴影掩模包括选择性地防止涂层沉积到衬底上的掩模线特征。掩模线特征平行于OLED衬底的移动方向定位。阴影掩模还包括一个或多个光束特征，这些光束特征垂直于OLED衬底的移动方向定位，并为掩模线特征提供机械支撑。这些光束特征用于防止掩模线特征因热应力或机械应力而变形。已知的装置适合于沉积在衬底的纵向方向上延伸的相互间隔开的涂层带。缺点是该装置不适于沉积在纵向方向上有边界的特征。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种沉积装置和沉积方法，该沉积装置和沉积方法的改进之处在于其能够沉积更多种类的图案，同时充分支撑阴影掩模。

根据本发明的第一方面，提供了一种如权利要求1所述的沉积装置。

根据本发明的第二方面，提供了一种如权利要求17所述的沉积方法。

其中，沉积装置中以及沉积方法中使用的沉积掩模具有由至少一个封闭区域和至少一个穿孔区域限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔限定。此外，设置了衬底载体，该衬底载体以使衬底表面与第二掩模表面相距一定距离的方式承载衬底。

在这种沉积装置和沉积方法中，可以沉积以前用单一金属板作为沉积掩模无法实现的图案。例如，保持字符“e”内无沉积物质的衬底区域需要沉积掩模中的相应封闭区域。衬底表面围绕该衬底区域的区域应可渗透待沉积物质。然而，这将需要沉积掩模的封闭区域不再连接到掩模的其余部分。在根据本发明的沉积装置和沉积方法中，将物质可渗透的区域作为穿孔区域。一方面，这允许沉积物质前进到衬底表面。同时，其支撑包含在内部的封闭区域。当衬底载体以使衬底表面与第二掩模表面相距一定距离的方式承载衬底时，由穿孔区域中的各个通孔产生的沉积图案相互重叠，使得各个通孔的图案在由沉积在衬底表面上的物质形成的图案中不可见(或在有限程度上不可见)。

当衬底载体以使衬底表面与第二掩模表面相距一定距离的方式承载衬底时，实现了根据与由沉积掩模的至少一个封闭区域和至少一个穿孔区域限定的空间图案相对应的空间图案来沉积物质，即，该至少一个封闭区域对应于第一衬底表面上与沉积掩模的该至少一个封闭区域同构的至少第一区域，并且该至少一个穿孔区域对应于第一衬底表面上与沉积掩模的该至少一个穿孔区域同构的至少第二区域。

其中，该至少第一区域基本上无沉积物质，并且该至少第二区域设置有物质层。由于衬底载体以使衬底表面与第二掩模表面相距一定距离的方式承载衬底，因此实现了至少第二区域中的沉积层基本均匀。基本均匀的层应理解为该层的厚度变化小于沉积层的厚度的平均变化。更具体地说，最小厚度和最大厚度之差小于平均厚度的50％。优选地，最小厚度和最大厚度之差小于平均厚度的20％，或者甚至小于平均厚度的10％。

在一个实施例中，沉积掩模具有曲线形状，并且衬底载体以使衬底表面与第二掩模表面共形的方式承载衬底。由此，沉积掩模的结构完整性可以提高。