[发明专利]合成图像及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201780049852.1 申请日: 2017-06-07
公开(公告)号: CN109690664B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: D.帕拉 申请(专利权)人: 罗灵光学创新有限公司
主分类号: G09F19/14 分类号: G09F19/14;G02B30/27;G02B30/34;G02B27/10;G06T3/40
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 秦宝龙;闫小龙
地址: 瑞典*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 合成 图像 及其 制造 方法
【说明书】:

一种合成图像设备包括图像层(10)和聚焦元件阵列。所述图像层(10)被布置在所述聚焦元件阵列的聚焦元件的焦距附近。所述图像层包括复合图像对象(36)。该复合图像对象(36)是第一组图像对象、与所述第一组图像对象相关联的包络区域和第二组图像对象的条件合并。该包络区域覆盖所述第一组图像对象并且包括不覆盖所述第一组图像对象的边缘区域。该条件合并是通过使复合图像对象(36)仅在存在第一组图像对象的点中呈现或使复合图像对象仅在存在第二组图像对象但不存在与第一组图像对象相关联的包络区域的点中呈现而构成的。

技术领域

发明总体上涉及光学设备以及其制造工艺,并且特别地涉及合成图像设备以及其制造方法。

背景技术

合成图像领域在过去几年期间已迅速发展。合成图像设备目前被用于创建引人注目的视觉效果以用于许多不同目的,例如作为安全标记、篡改指示或简单地作为美学图像。通常,合成图像设备旨在作为标签或作为另一设备中的集成部分而被提供。已经发现并使用了许多不同的光学效果,并且常常将不同的光学效果组合来给出某种所需的视觉外观。

合成图像设备的典型实现是薄聚合物箔,在这里在不同的平面中创建聚焦元件和图像对象。用于合成图像设备的典型方法是提供小聚焦元件的阵列。聚焦元件可以是不同种类的透镜、孔径或反射器。向图像对象提供图像层。相对于聚焦元件阵列来提供图像层,以使得当从不同角度观看该设备时,图像对象的不同部分被聚焦元件放大并一起形成完整图像。依据图像对象的设计,合成图像可以在观看条件(例如观看角度)改变时以不同的方式来改变。合成图像的实际感知由用户的眼睛和大脑来执行。人脑将不同的部分信息组合成总体的能力会将来自各个聚焦元件的片段化的部分图像转换成可理解的合成图像。这种创建可理解的总体的能力也可以被用于创建“令人惊讶的效果”,其可以被用作引人注目的特征或用于安全和/或认证目的。然而,在某些情况下,大脑关联不同片段的方式可能导致对创建可理解的总体的意想不到的困难。

发明内容

利用本文中提出的技术的一般目的是提高针解释合成图像的能力。

通过根据独立权利要求的方法和设备来实现上述目的。在从属权利要求中定义优选实施例。

一般而言,在第一方面中,一种合成图像设备包括图像层和聚焦元件阵列。图像层被布置在聚焦元件阵列的聚焦元件的焦距附近。图像层包括复合(composite)图像对象。所述图像层的复合图像对象是至少第一组图像对象、与所述第一组图像对象相关联的包络区域以及第二组图像对象的条件合并。该第一组图像对象被布置用于在被放置在聚焦元件的焦距附近并且通过聚焦元件阵列来观看时在非零高度或深度处产生至少第一合成图像。同样地,所述第二组图像对象被布置用于在被放置在聚焦元件的焦距附近并且通过聚焦元件阵列来观看时在非零高度或深度处产生至少第二合成图像。第一组图像对象的包络区域是覆盖该第一组图像对象的区域,并且还包括不覆盖该第一组图像对象的边缘(margin)区域。该条件合并是通过使复合图像对象仅在存在第一组图像对象的点中呈现或使复合图像对象仅在存在第二组图像对象但不存在与第一组图像对象相关联的包络区域的点中呈现而构成的。

在第二方面,一种用于产生合成图像设备的方法,包括创建第一组图像对象的数值表示。该第一组图像对象被布置用于在被放置在聚焦元件的焦距附近并且通过该聚焦元件阵列来观看时在非零高度或深度处产生至少第一合成图像。创建第二组图像对象的数值表示。第二组图像对象被布置用于在被放置在聚焦元件的焦距附近并且通过该聚焦元件阵列来观看时在非零高度或深度处产生至少第二合成图像。创建包络区域的数值表示。包络区域与第一组图像对象相关联。第一组图像对象的包络区域是覆盖第一组图像对象并且还包括不覆盖第一组图像对象的边缘区域的区域。根据预定条件将第一组图像对象的数值表示和与第一组图像对象相关联的包络区域的数值表示同第二组图像对象的数值表示合并为复合图像对象的数值表示。条件合并使得复合图像对象仅在存在第一组图像对象的点中呈现或使得复合图像对象仅在存在第二组图像对象但不存在与第一组图像对象相关联的包络区域的点中呈现。根据复合图像对象的数值表示来形成图像层。形成聚焦元件阵列。图像层被布置在聚焦元件阵列的聚焦元件的焦距附近。

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