[发明专利]斥水膜形成用组合物、斥水膜、具有斥水膜的基体以及物品

权利要求书

1.斥水膜形成用组合物，它是含有下式(1)所示的化合物、和下式(2)所示且数均分子量在3000以上的化合物的斥水膜形成用组合物，其特征在于，

所述式(1)所示的化合物中的基团SiR¹_pX¹_3-p与所述式(2)所示且数均分子量在3000以上的化合物中的基团SiR²_rX²_3-r的摩尔比([式(1)所示的化合物中的SiR¹_pX¹_3-p的摩尔数]/式(2)所示且数均分子量在3000以上的化合物中的SiR²_rX²_3-r的摩尔数])为1.5～20，且所述式(1)所示的化合物与所述式(2)所示且数均分子量在3000以上的化合物的摩尔比([式(1)所示的化合物的摩尔数]/[式(2)所示且数均分子量在3000以上的化合物的摩尔数])为2～40，

式(1)：R^f1-Q¹-SiR¹_pX¹_3-p

式(1)中，

R^f1是基团C_kF_2k+1，其中，k为1～8的整数，

Q¹是碳原子数1～6的2价烃基，

R¹分别独立地是碳原子数1～6的1价烃基，

X¹分别独立地是羟基或水解性基团，

p为0～2的整数，

式(2)：[A]_b1Q²[B]_b2

式(2)中，

Q²是(b1+b2)价的连接基团，

A是R^f3-O-R^f2-所示的基团，R^f2是聚(氧基氟代亚烷基)链，R^f3是全氟烷基，

B是具有1个-R¹²-(SiR²_rX²_3-r)且不含氟原子的1价基团，R¹²是可在碳-碳原子间或与Si结合侧的相反侧的末端具有醚性氧原子、或可在碳-碳原子间具有-NH-的碳原子数2～10的烃基，R²分别独立地是氢原子或碳原子数1～6的1价烃基，该烃基可具有取代基，X²分别独立地是羟基或水解性基团，r是0～2的整数，

Q²和B不含环状硅氧烷结构，

b1是1～3的整数，

b2是2～9的整数，

b1在2以上时，b1个A可相同或不同，

b2个B可相同或不同。

2.如权利要求1所述的斥水膜形成用组合物，其特征在于，式(2)中的R^f2是-(C_aF_2aO)_n-所示的基团，a是1～6的整数，n是2以上的整数，各-C_aF_2aO-单元可相同或不同。