[发明专利]高分子材料有效
| 申请号： | 201780051124.4 | 申请日： | 2017-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN109642085B | 公开（公告）日： | 2021-09-10 |
| 发明（设计）人： | 原田明;山口浩靖;高岛義德;吞村优;荒本光;以仓崚平;中畑雅树;岩曾一恭;平贺健太郎;杉山明平;山口史彦;野村孝史 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社;国立大学法人大阪大学 |
| 主分类号： | C08L101/02 | 分类号： | C08L101/02;C08F290/12;C08L33/06;C09D133/00;C09D201/04 |
| 代理公司： | 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 | 代理人： | 龚敏;王刚 |
| 地址： | 日本国大阪府大阪*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高分子材料 | ||
1.一种高分子材料，其包含含有第一结构单元及所述第一结构单元以外的第三结构单元的第一高分子和含有第二结构单元及所述第二结构单元以外的第三结构单元的第二高分子，所述第一结构单元在侧链上具有客体基，所述第二结构单元在侧链上具有主体基，其中，
所述第一结构单元包含后述的式(1a)表示的结构和/或后述的式(1′a)表示的结构，
上式(1a)中，
Ra表示氢原子、甲基或氟基，
Rb表示氢原子或氟基，
Rc表示氢原子或氟基，
R1表示从选自由下述基团组成的组中的1价基团中除去1个氢原子而形成的2价基团：羟基、巯基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷氧基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷硫基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的氨基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的酰胺基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的苯基、醛基及羧基；和/或R1表示由-O-(CH2-CH2-O)n-(n为1～20)表示的基团，
RG表示客体基；
上式(1′a)中，
Ra、Rb、Rc及RG与式(1a)中的这些基团的定义相同；
所述第二结构单元由后述通式(2a)表示，
式(2a)中，Ra表示氢原子、甲基或氟基；Rb表示氢原子或氟基；Rc表示氢原子或氟基；R2表示从选自由下述基团组成的组中的1价基团中除去1个氢原子而形成的2价基团：羟基、巯基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷氧基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷硫基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的烷基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的氨基、不具有取代基或具有1个以上的取代基的酰胺基、醛基及羧基，或R2表示-C(O)NH-(CH2)n-O-C(O)-(n为2～8)；RH表示主体基，
用于形成所述主体基的分子为环糊精或其衍生物，
所述客体基为全氟烃基，
相对于所述第一结构单元、所述第二结构单元及所述第三结构单元的总摩尔数，包含第一结构单元0.01～10摩尔％，包含第二结构单元0.01～10摩尔％。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大金工业株式会社;国立大学法人大阪大学，未经大金工业株式会社;国立大学法人大阪大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201780051124.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
