[发明专利]贴合用基板的表面缺陷的评价方法有效
申请号: | 201780051581.3 | 申请日: | 2017-07-26 |
公开(公告)号: | CN109643670B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 佐藤一弥;桥本浩昌;西泽毅;堀江启贵 | 申请(专利权)人: | 信越半导体株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01N21/956 |
代理公司: | 北京京万通知识产权代理有限公司 11440 | 代理人: | 许天易 |
地址: | 日本东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 贴合 用基板 表面 缺陷 评价 方法 | ||
1.一种贴合用基板的表面缺陷的评价方法,包含以下步骤:
准备经镜面加工的单晶硅基板;
检查该经镜面加工的单晶硅基板的表面缺陷;
于经进行该单晶硅基板的缺陷检查的表面堆积多晶硅层;
对经堆积多晶硅层的该单晶硅基板进行镜面倒角;
研磨该多晶硅层的表面;
检查经研磨的该多晶硅层的表面缺陷;以及
比较检查该单晶硅基板的表面缺陷的步骤中与检查该多晶硅层的表面缺陷的步骤中所检测出的缺陷的坐标,以有无于同一位置的缺陷,对具有多晶硅层的该单晶硅基板进行作为贴合用基板的良莠判定。
2.如权利要求1所述的贴合用基板的表面缺陷的评价方法,其中该贴合用基板,为贴合式SOI晶圆的基底晶圆。
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