[发明专利]防污性膜

说明书

本发明提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。本发明的防污性膜具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。

技术领域

本发明涉及一种防污性膜。更详细而言，本发明涉及一种具有纳米尺寸的凹凸结构的防污性膜。

背景技术

关于具有抗反射性的光学膜，已进行了各种研究(例如参照专利文献1～专利文献3)。尤其已知具有纳米尺寸的凹凸结构(纳米结构)的光学膜具有优异的抗反射性。根据这种凹凸结构，折射率从空气层向基材连续地变化，因而能够明显减少反射光。

现有技术文献

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2012-52125号公报

[专利文献2]国际公开第2007/040159号

[专利文献3]日本专利特开2005-97371号公报

发明内容

本发明所要解决的技术问题

但是，对于这种光学膜来说，虽然具有优异的抗反射性，但另一方面，其表面的凹凸结构会导致指纹(皮脂)等污垢附着时附着的污垢容易扩展，进而难以将进入凸部间的污垢擦去。而且，所附着的污垢由于其反射率与光学膜的反射率大不相同，因而容易被看到。因此，需求表面具有纳米尺寸的凹凸结构，且对污垢的擦去性(例如指纹擦去性)、即防污性优异的功能性膜(防污性膜)。

对此，本发明人等进行了研究，结果得知，现有的防污性膜除了防污性不足以外，防污性膜的基材与构成防污性膜的表面(凹凸结构)的聚合物层的密接性也不充分。进而得知，现有的防污性膜的耐磨性及可靠性也不充分。例如，若摩擦聚合物层的表面(凹凸结构的表面)，则有时凸部彼此粘连而不恢复成原本的状态(凸部坍塌后不立起)，或凸部破损，因而要求提高耐磨性。而且，有时在高温/高湿的环境下，聚合物层的构成材料渗出(bleedout)而导致光学特性降低，因而要求提高可靠性。

如以上那样，对于现有的防污性膜来说，尚未找出使防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的方式。例如，所述专利文献1～3中并无与密接性及可靠性相关的记载，在提高防污性及耐磨性的方面也有改善的余地。

本发明是鉴于所述现状而成，其目的在于提供一种防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜。

解决问题的方案

本发明人等对防污性、密接性、耐磨性及可靠性均优异的防污性膜进行了各种研究，结果发现了构成防污性膜的聚合物层的聚合性组成物以既定比率含有提高各特性那样的成分的结构。想到由此能完美地解决所述课题，从而达成了本发明。

即，本发明的一形态是一种防污性膜，其具备：基材；以及聚合物层，其配置在所述基材的表面上，且在表面具有以可见光的波长以下的间距而设有多个凸部的凹凸结构，并且所述聚合物层为聚合性组成物的硬化物，所述聚合性组成物以有效成分换算，含有15重量％～40重量％的六官能以上的丙烯酸氨基甲酸酯、35重量％～60重量％的每个官能基包含3个～15个环氧乙烷基的四官能以上的多官能丙烯酸酯、15重量％～30重量％的不具有环氧乙烷基的单官能丙烯酸酯、0.5重量％～10重量％的具有全氟聚醚基且氟原子浓度为50重量％以下的氟系脱模剂、以及0.5重量％～5重量％的聚合引发剂。

所述聚合物层的表面的动摩擦系数也可为2.0以下。