[发明专利]通过感测管芯设计实现过度力控制在审

专利信息
申请号: 201780052069.0 申请日: 2017-08-28
公开(公告)号: CN109642842A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 理查德·韦德;理查德·艾伦·戴维斯 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: G01L9/00 分类号: G01L9/00;G01L19/14
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 感测管芯 接合焊盘 结构框架 感测元件 芯片 电触点 电耦合 侧面支撑 膜片支撑 延伸穿过 感测膜 力控制 膜片 侧面
【权利要求书】:

1.一种感测管芯(100),包括:

芯片,所述芯片包括感测膜片(102);

一个或多个感测元件(120,122,124,126),所述一个或多个感测元件由所述膜片(102)支撑;

一个或多个接合焊盘(130,132,134,136),所述一个或多个接合焊盘由所述芯片的第一侧面(103)支撑,所述一个或多个接合焊盘(130,132,134,136)中的每一者电耦合到所述一个或多个感测元件(120,122,124,126)中的至少一者;

结构框架(104),所述结构框架设置在所述芯片的所述第一侧面(103)上,其中所述结构框架(104)至少部分地围绕所述膜片(102)设置;和

一个或多个电触点(106),所述一个或多个电触点延伸穿过所述结构框架(104),其中所述一个或多个电触点(106)电耦合到所述一个或多个接合焊盘(130,132,134,136)。

2.根据权利要求1所述的感测管芯,其中所述一个或多个电触点(106)与所述结构框架(104)的表面齐平。

3.根据权利要求1所述的感测管芯,还包括:保护涂层(114),所述保护涂层设置在所述芯片的所述第一侧面(103)上。

4.根据权利要求1所述的感测管芯,其中所述结构框架(104)由电绝缘材料形成。

5.根据权利要求1所述的感测管芯,其中所述结构框架(104)由选自以下项的材料形成:氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氮化铝、类金刚石碳、硼硅酸盐玻璃、旋涂式玻璃、有机硅、聚合酰亚胺、聚对二甲苯、或聚合苯并环丁烯、有机硅酸盐电介质、合成材料、固化树脂以及它们的任何组合。

6.根据权利要求1所述的感测管芯,还包括:

侧壁(108),所述侧壁从所述芯片的第二侧面(105)延伸;和

致动元件(110),所述致动元件与所述侧壁(108)内的所述膜片(102)保持接触。

7.根据权利要求1所述的感测管芯,其中所述结构框架(104)具有的高于所述第一侧面上的所述膜片(102)的表面的高度介于约0.1微米和约8微米之间。

8.根据权利要求1所述的感测管芯,还包括信号调节电路(406),其中所述信号调节电路(406)与所述一个或多个感测元件(120,122,124,126)进行信号通信,并且其中所述信号调节电路(406)被配置为提供所述膜片(102)上的力或压力的指示。

9.一种制造感测管芯的方法,所述方法包括:

提供包括多个感测管芯(100)的晶片(602),其中所述多个感测管芯中的每个感测管芯包括其上形成有膜片(102)的芯片;

将结构框架材料设置在所述晶片(602)上,其中所述结构框架材料具有高度;

在每个感测管芯(100)的每个膜片(102)周围形成结构框架(104);以及

切割所述晶片以形成包括单个膜片(102)的一个或多个感测管芯(100)。

10.根据权利要求9所述的方法,还包括:

形成穿过所述结构框架(104)的一个或多个电触点(106),其中所述电触点(106)电耦合到由所述膜片(102)支撑的一个或多个感测元件(120,122,124,126)。

11.根据权利要求10所述的方法,其中所述一个或多个电触点(106)的表面与所述结构框架(104)的表面齐平。

12.根据权利要求9所述的方法,其中所述晶片包括保护涂层(114),所述保护涂层位于至少所述膜片之上。

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